Qualità Slurry di CMP di alluminio. Slurry di ossido di alluminio ad alte prestazioni per semiconduttori. Fabbrica
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Qualità Slurry di CMP di alluminio. Slurry di ossido di alluminio ad alte prestazioni per semiconduttori. Fabbrica
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Slurry di CMP di alluminio. Slurry di ossido di alluminio ad alte prestazioni per semiconduttori.

Marchio: LICHEN
Numero di modello: LC
Luogo di origine: Cina
Certificazione: ISO9001
Quantità di ordine minimo: 20KG
Prezzo: Contact us
Capacità di approvvigionamento: 3000MT/year

Dettagli del prodotto


D50: 50 – 300 nm pH: 3 – 11
contenuto solido: 5 – 25 Distribuzione delle particelle: PSD ristretto
Stabilità della dispersione: Eccellente Prestazioni difettose: Basso tasso di scratch
Evidenziare

Impianto di CMP di allumina per semiconduttori

,

Impianto di scarico di ossido di alluminio

,

Impianto di planarizzazione chimico-meccanica

Descrizione di prodotto

Slurry CMP di Allumina | Slurry ad alte prestazioni di ossido di alluminio per la planarizzazione chimico-meccanica dei semiconduttori

Panoramica:

Slurry CMP di allumina ad alta purezza progettato per la planarizzazione dei wafer semiconduttori. Dispersione stabile, velocità di rimozione controllabile ed eccellente uniformità superficiale per processi CMP avanzati.

 

Caratteristiche e Vantaggi Chiave

Eccellenti Prestazioni di Planarizzazione

Fornisce una rimozione uniforme del materiale e una planarità superficiale superiore richiesta nella fabbricazione di semiconduttori.

Velocità di Rimozione Controllata

L'equilibrio ottimizzato tra abrasivo e chimico consente un controllo preciso della lucidatura per diversi materiali di wafer.

Bassa Generazione di Difetti

L'elevata stabilità della dispersione minimizza l'agglomerazione delle particelle, riducendo graffi e difetti.

Funzionamento CMP Stabile

Mantiene prestazioni costanti dello slurry durante lunghi cicli di lucidatura e produzione automatizzata.

Elevata Compatibilità di Processo

Adatto a varie piattaforme CMP e sistemi di pad di lucidatura.


Distribuzione della Dimensione delle Particelle

Slurry di CMP di alluminio. Slurry di ossido di alluminio ad alte prestazioni per semiconduttori.

Applicazioni Tipiche

Produzione di Semiconduttori

  • CMP di wafer di silicio
  • Planarizzazione dello strato di ossido
  • Lucidatura dello strato metallico
  • Lucidatura del dielettrico intermedio



Domande e Risposte

1. Posso ricevere un campione prima di effettuare un ordine all'ingrosso?

Assolutamente! Forniamo campioni per la valutazione. Contatta il nostro team per richiedere un campione e organizzeremo la spedizione.

2. Come posso effettuare un ordine? Qual è il tempo di consegna tipico?

Per effettuare un ordine, contatta semplicemente il nostro team di vendita, che ti guiderà attraverso il processo e ti fornirà un preventivo. I tempi di consegna variano in base alle dimensioni dell'ordine, alla posizione e alla disponibilità in magazzino, e ti forniremo una pianificazione stimata una volta confermato l'ordine.

Caratteristiche del prodotto

Slurry CMP di Allumina | Slurry ad alte prestazioni di ossido di alluminio per la planarizzazione chimico-meccanica dei semiconduttori Panoramica: Slurry CMP di allumina ad alta purezza progettato per la planarizzazione dei wafer semiconduttori. Dispersione stabile, velocità di rimozione controllabi...

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