Slurry CMP de aluminio. Slurry de óxido de aluminio de alto rendimiento para planarización mecánica química y semiconductora.
Detalles del producto
| D50: | 50 – 300 nm | pH: | 3 – 11 |
|---|---|---|---|
| contenido sólido: | 5 – 25 | Distribución de partículas: | PSD estrecho |
| Estabilidad de dispersión: | Excelente | Rendimiento de defectos: | Tasa de raspado baja |
| Resaltar |
Esmerile de aluminio CMP para semiconductores,Esmerile de óxido de aluminio de alto rendimiento,Esparcimiento de planarización química mecánica |
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Descripción de producto
Slurry CMP de aluminio. Slurry de óxido de aluminio de alto rendimiento para planarización mecánica química y semiconductora.
Resumen general:
Llorera de CMP de alumina de alta pureza diseñada para la planarización de obleas de semiconductores. Dispersión estable, tasa de eliminación controlable y excelente uniformidad superficial para procesos avanzados de CMP.
Características y ventajas clave
Excelente rendimiento de planarización
Proporciona una eliminación uniforme del material y una superficie plana superior requerida en la fabricación de semiconductores.
Tasa de eliminación controlada
El equilibrio abrasivo y químico optimizado permite un control de pulido preciso para diferentes materiales de obleas.
Generación de defecto bajo
La alta estabilidad de dispersión minimiza la aglomeración de partículas, reduciendo los arañazos y los defectos.
Funcionamiento estable de la CMP
Mantenga un rendimiento constante del estiércol durante ciclos de pulido largos y producción automatizada.
Alta compatibilidad de los procesos
Adecuado para varias plataformas CMP y sistemas de almohadillas de pulido.
Distribución del tamaño de las partículas
Aplicaciones típicas
Fabricación de semiconductores
- Wafer de silicio CMP
- Planarización de la capa de óxido
- Polido de capas metálicas
- Polido dieléctrico entre capas
Pregunta y respuesta
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Lo más destacado del producto
Slurry CMP de aluminio. Slurry de óxido de aluminio de alto rendimiento para planarización mecánica química y semiconductora. Resumen general: Llorera de CMP de alumina de alta pureza diseñada para la planarización de obleas de semiconductores. Dispersión estable, tasa de eliminación controlable y ...
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Polvo de oxalato de cerio, reactivo químico, elementos
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
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