Алюминина CMP суспензия | Высокоэффективная суспензия оксида алюминия для химико-механической планаризации полупроводников
Детали продукта
| D50: | 50 – 300 нм | рН: | 3 – 11 |
|---|---|---|---|
| солидное содержание: | 5 – 25 | Распределение частиц: | Узкий PSD |
| Стабильность дисперсии: | Отличный | Дефект производительности: | Низкая скорость царапин |
| Выделить |
Алюминина CMP суспензия для полупроводников,Высокоэффективная суспензия оксида алюминия,Суспензия для химико-механической планаризации |
||
Характер продукции
Алюминиевая СМП Слюра. Высокопроизводительная Слюра из оксида алюминия для полупроводниковой химической и механической плоскости.
Обзор:
Высокочистая смесь из алюминия CMP, предназначенная для планаризации полупроводниковых пластин.
Ключевые особенности и преимущества
Отличная производительность планировки
Обеспечивает равномерное удаление материала и превосходную плоскость поверхности, требуемую при изготовлении полупроводников.
Контролируемая скорость удаления
Оптимизированный абразивный и химический баланс позволяет точно контролировать полировку для различных материалов пластины.
Низкое дефектное поколение
Высокая стабильность дисперсии минимизирует агломерацию частиц, уменьшая царапины и дефекты.
Устойчивая работа СМП
Сохраняет постоянную производительность отщепки во время длительных циклов полировки и автоматизированного производства.
Высокая совместимость процессов
Подходит для различных платформ CMP и систем полировки.
Распределение размеров частиц
Типичные применения
Производство полупроводников
- Кремниевые пластинки CMP
- Плоскообразование оксидного слоя
- Полировка металлических слоев
- Диэлектрическая полировка между слоями
Вопросы и ответы
1Могу я получить образец перед большим заказом?
Мы предоставляем образцы для оценки, свяжитесь с нашей командой, чтобы запросить образцы, и мы организуем доставку.
2- Как я могу сделать заказ?
Чтобы сделать заказ, просто свяжитесь с нашей командой по продажам, которая поможет вам пройти процесс и предоставит предложение.Время доставки зависит от размера заказа, места и наличия запасов, и мы дадим вам расчетный график после подтверждения заказа.
Основные характеристики продукта
Алюминиевая СМП Слюра. Высокопроизводительная Слюра из оксида алюминия для полупроводниковой химической и механической плоскости. Обзор: Высокочистая смесь из алюминия CMP, предназначенная для планаризации полупроводниковых пластин. Ключевые особенности и преимущества Отличная производительность пла...
Полировальный порошок на основе оксида церия класса CMP для AR-оптики, массивов микролинз и носимых оптических датчиков
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Сверхтонкий полировальный порошок оксида церия для смарт-носимых устройств, защитных стекол и микрооптики
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Полирующий порошок с оксидом церия высокой чистоты для производства стекла с волноводом AR и оптических линз
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Оксалат церия в порошке Химический реагент элементы
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Пожалуйста, воспользуйтесь нашей онлайн-формой для запроса, если у вас есть вопросы, наша команда свяжется с вами как можно скорее.
