Polvere lucidante di ossido di cerio di grado semiconduttore per wafer e substrati avanzati
Dettagli del prodotto
| Purezza: | ≥ 99,9% | D50: | 0,2 – 0,6 µm |
|---|---|---|---|
| Capacità di finitura superficiale: | Livello nanometrico | pH (sospensione al 15%): | 6.5 – 8.5 |
| aspetto: | Polvere giallo chiaro | Stabilità della dispersione: | Alto |
| Evidenziare |
polvere di ossido di cerio di grado semiconduttore,polvere di lucidatura dell'ossido di cerio per wafer,polvere di lucidatura delle terre rare per substrati |
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Descrizione di prodotto
Polvere lucidante a base di ossido di cerio di grado semiconduttore per wafer e substrati avanzati
Panoramica del prodotto
La polvere lucidante a base di ossido di cerio di grado semiconduttore è formulata per applicazioni di lucidatura sensibili ai difetti nella produzione di semiconduttori e substrati elettronici avanzati. La purezza controllata e l'ingegnerizzazione delle particelle riducono i rischi di contaminazione garantendo al contempo prestazioni di planarizzazione costanti.
Ottimizzato per la preparazione di slurry CMP utilizzati nell'elaborazione di wafer semiconduttori.
Caratteristiche principali
- Materiale ad altissima purezza
- Bassi livelli di impurità metalliche
- Eccellente dispersione nella formulazione dello slurry CMP
- Velocità di rimozione controllata
- Ridotta formazione di graffi e difetti
- Prestazioni di lucidatura stabili
Distribuzione della dimensione delle particelleApplicazioni
Lucidatura di wafer di silicio
- Preparazione di substrati semiconduttori
- Materiali semiconduttori composti
- Substrati per imballaggi avanzati
- Lucidatura elettronica e microelettronica
- Domande frequenti
D1. Qual è la differenza tra i gradi di polvere lucidante a base di ossido di cerio?
Le polveri lucidanti a base di ossido di cerio sono progettate per diverse fasi e materiali di lucidatura.
La selezione del grado appropriato dipende dal materiale del substrato, dalla rugosità superficiale richiesta e dalle condizioni del processo di lucidatura.
D2. Quali materiali possono essere lucidati utilizzando la polvere lucidante a base di ossido di cerio?
La polvere lucidante a base di ossido di cerio è ampiamente utilizzata nelle industrie manifatturiere avanzate ed è adatta per:
Vetro ottico e silice fusa
- Zaffiro e cristalli laser
- Componenti fotonici
- Wafer di silicio
- Substrati semiconduttori
- Elementi ottici e laser di precisione
- Il suo meccanismo di lucidatura chimico-meccanica consente un'eccellente finitura superficiale con danni minimi al sottosuolo.
D3. La polvere lucidante a base di ossido di cerio può essere personalizzata per processi di lucidatura specifici?
Sì. La polvere lucidante a base di ossido di cerio può essere personalizzata in base alle esigenze del cliente, tra cui:
Distribuzione della dimensione delle particelle
- Prestazioni della velocità di rimozione
- Obiettivi di finitura superficiale
- Concentrazione di preparazione dello slurry
- Formulazioni specifiche per l'applicazione
- Il supporto tecnico e la valutazione dei campioni sono generalmente disponibili per ottimizzare le prestazioni di lucidatura per diverse attrezzature e materiali.
Caratteristiche del prodotto
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