Kwaliteit Hoogzuivere Nano Ceria CMP Slurry (200nm Deeltjesgrootte) Ontworpen Voor Halfgeleiders Fabriek
<
Kwaliteit Hoogzuivere Nano Ceria CMP Slurry (200nm Deeltjesgrootte) Ontworpen Voor Halfgeleiders Fabriek
>

Hoogzuivere Nano Ceria CMP Slurry (200nm Deeltjesgrootte) Ontworpen Voor Halfgeleiders

Merknaam: LICHEN
Modelnummer: LC
Plaats van herkomst: China
Certificering: ISO
Minimale bestelhoeveelheid: 20KG
Prijs: NEGOCIABLE
Toeleveringsvermogen: 3000MT/year

Productdetails


D50: 200Nm Agglomeratie: Extreem laag
CeO₂: 99% stevige inhoud: 20 gew%
Ph-bereik: 6,5 – 8,5 verschijning: Wit
Markeren

nano ceria CMP slurry halfgeleider

,

hoogzuivere ceria polijstslurry

,

200nm deeltjesgrootte CMP slurry

Productomschrijving


Hoogzuivere Nano Ceria CMP Slurry (200nm Deeltjesgrootte) Ontworpen Voor Halfgeleiders

Beschrijving

Hoogzuivere nano ceriumoxide CMP slurry (100nm deeltjesgrootte) ontworpen voor halfgeleiders en geavanceerde oppervlakteafwerking. Stabiele dispersie, hoge verwijderingssnelheid en ultralage oppervlakte defecten.

Het is ideaal voor precisiepolijstprocessen van de volgende generatie die controle op nanometer-niveau van het oppervlak vereisen.

 

Belangrijkste Kenmerken & Voordelen

Nano-Schaal Precisie Polijsten

De ceriumoxide deeltjes van 100 nm maken gecontroleerde materiaalverwijdering op nanometer-niveau mogelijk, waardoor de slurry geschikt is voor geavanceerde CMP-processen die ultra-gladde oppervlakken vereisen.

Hoge Verwijderingssnelheid met Lage Defecten

Geoptimaliseerde chemische activiteit van ceriumoxide zorgt voor efficiënt polijsten met minimale krassen, putjes en resterende defecten.

Uitstekende Dispersiestabiliteit

Positief zeta-potentiaal ontwerp zorgt voor langdurige slurrystabiliteit, waardoor de agglomeratie van deeltjes tijdens opslag en gebruik wordt voorkomen.

Superieure Oppervlaktekwaliteit

Bereikt spiegelkwaliteit oppervlakteafwerkingen met extreem lage ruwheid (Ra), wat de downstream coating, lithografie en apparaatprestaties verbetert.

Procescompatibiliteit

Compatibel met belangrijke CMP-platforms, polijstpads en geautomatiseerde slurry-toevoersystemen.



Deeltjesgrootte Distributie


Hoogzuivere Nano Ceria CMP Slurry (200nm Deeltjesgrootte) Ontworpen Voor Halfgeleiders 0

V&A

1. Wat is zeldzame aardse polijstpoeder?

Zeldzame aardse polijstpoeder is een hoogzuivere verbinding die wordt gebruikt voor het polijsten van optische componenten, halfgeleiderwafers en delicate oppervlakken zoals glas en lenzen. Het levert een gladde, heldere afwerking zonder het materiaal te beschadigen.

2. Hoe kies ik het juiste zeldzame aardse polijstpoeder voor mijn toepassing?

Om het ideale polijstpoeder te selecteren, moet u rekening houden met factoren zoals het materiaal dat u polijst, de vereiste afwerking en specificaties zoals deeltjesgrootte en zuiverheid. Ons verkoopteam staat klaar om u te helpen het perfecte product voor uw behoeften te kiezen.

3. Hoe moet ik zeldzame aardse polijstpoeder bewaren?

Bewaar op een koele, droge plaats, uit de buurt van vocht en direct zonlicht. Bewaar het poeder in luchtdichte containers om besmetting te voorkomen en de effectiviteit te behouden. Bij correcte opslag is het meestal 1-2 jaar houdbaar.

4. Biedt u aangepaste zeldzame aardse formuleringen aan?

Ja, we bieden op maat gemaakte zeldzame aardse polijstpoeders en slurries aan, afgestemd op uw specifieke behoeften, inclusief aanpassingen aan de deeltjesgrootte, chemische samenstelling of slurryconsistentie.

5. Kan ik een monster krijgen voordat ik een bulkbestelling plaats?

Absoluut! We bieden monsters aan voor evaluatie. Neem contact op met ons team om een monster aan te vragen, en wij regelen de verzending.

6. Hoe kan ik een bestelling plaatsen? Wat is de typische levertijd?

Om een bestelling te plaatsen, neemt u eenvoudig contact op met ons verkoopteam, dat u door het proces zal leiden en een offerte zal verstrekken. Levertijden variëren afhankelijk van de bestelgrootte, locatie en beschikbaarheid van de voorraad, en we geven u een geschat schema zodra de bestelling is bevestigd.

Producthoogtepunten

Hoogzuivere Nano Ceria CMP Slurry (200nm Deeltjesgrootte) Ontworpen Voor Halfgeleiders Beschrijving Hoogzuivere nano ceriumoxide CMP slurry (100nm deeltjesgrootte) ontworpen voor halfgeleiders en geavanceerde oppervlakteafwerking. Stabiele dispersie, hoge verwijderingssnelheid en ultralage ...

Verwante producten
Kwaliteit CMP-kwaliteit ceriumoxide polijstpoeder voor AR-optiek, micro-lensarrays & draagbare optische sensoren Fabriek

CMP-kwaliteit ceriumoxide polijstpoeder voor AR-optiek, micro-lensarrays & draagbare optische sensoren

CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics

Kwaliteit Ultrafijn ceriumoxide polijstpoeder voor smart wearable dekglaasjes en micro-optische afwerking Fabriek

Ultrafijn ceriumoxide polijstpoeder voor smart wearable dekglaasjes en micro-optische afwerking

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in

Kwaliteit Poetspoeder met hoog zuiverheidsgehalte van ceriumoxide voor de vervaardiging van AR-golfgeleiderglas en optische lenzen Fabriek

Poetspoeder met hoog zuiverheidsgehalte van ceriumoxide voor de vervaardiging van AR-golfgeleiderglas en optische lenzen

High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and

Kwaliteit Ceriumoxalaat Poeder Chemisch Reagens Elementen Fabriek

Ceriumoxalaat Poeder Chemisch Reagens Elementen

Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically

Verzoek om een Citaat

Gebruik ons online contactformulier als u vragen heeft, ons team zal u zo snel mogelijk contacteren.

Je kunt maximaal 5 bestanden uploaden en elk bestand maximaal 10M.