半導体向け高純度ナノセリアCMPスラリー（粒子径200nm）
製品詳細
| D50: | 200Nm | 凝集: | 非常に低い |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 99% | 固形物: | 20重量% |
| Ph 範囲: | 6.5 – 8.5 | 外観: | 白 |
| ハイライト |
ナノセリアCMPスラリー 半導体,高純度セリア研磨スラリー,粒子径200nm CMPスラリー |
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製品の説明
高純度ナノセリアCMPスラーリ (200nm粒子サイズ) 半導体用に設計
記述について
高純度ナノセリアCMPスラー (100nm粒子サイズ) は,半導体および高度な表面仕上げのために設計されています. 安定した分散,高い除去率,超低表面欠陥.
ナノメートルの表面制御を必要とする次世代の精密ポリシングプロセスに最適です
主要 な 特徴 と 利点
ナノスケール精密磨き
100nmのセリア粒子はナノメートルのレベルで制御された物質除去を可能にし,超滑らかな表面を必要とする高度なCMPプロセスに適している.
欠陥 が 少なく 除去 率 が 高く
セリウム酸化物の最適化された化学活動は,傷,穴,残留欠陥を最小限に抑えながら効率的な磨きを提供します.
優れた分散安定性
ポジティブなゼータポテンシャル設計は,貯蔵および運用中に粒子の集積を防止し,長期にわたるスラムの安定性を保証します.
上質 な 表面
極低の粗さ (Ra) で鏡級の表面仕上げを達成し,下流コーティング,リトグラフィー,デバイス性能を改善します.
プロセス互換性
主要なCMPプラットフォーム,ポーリングパッド,自動スラム配送システムと互換性がある.
粒子の大きさの分布について
Q&A
1稀土の磨き粉とは?
光学部品や半導体ウェーファーや ガラスやレンズなどの繊細な表面を 磨くのに使用される 高純度化合物です高透明度で材料を損傷することなく仕上げ.
2稀土の磨き粉を どう選べますか?
理想的な磨き粉を選ぶには,磨いている材料,必要な仕上げ,粒子の大きさや純度などの要素を考慮してください.あなたのニーズに最適な製品を選択するのに役立ちます..
3稀土の磨き粉を どうやって保管すればいいですか?
温かい乾燥した場所に保管し,湿度や日光から遠ざけます. 汚染を防止し有効性を維持するために,粉末を気密容器に保管します.通常は1〜2年続きます.
4稀土の製剤を 提供していますか?
はい,私たちは,あなたの特定のニーズを満たすために,細粒子のサイズ,化学的組成,またはスラムの一貫性調整を含む,カスタム稀土の磨き粉やスラムを提供しています.
5大量注文する前にサンプルを貰えますか?
絶対! 評価のためにサンプルを用意します. サンプルを依頼するためにチームに連絡してください. そして私たちは出荷を整理します.
6どうすれば注文できますか? 典型的な配達時間は?
注文をするには,単に販売チームと連絡してください. 彼らはプロセスを通してあなたを案内し,オートを提供します. 配達時間は,注文のサイズ,場所,および在庫の可用性によって異なります.オーダーが確認されたら 予定表を教えます.
製品 ハイライト
高純度ナノセリアCMPスラーリ (200nm粒子サイズ) 半導体用に設計 記述について 高純度ナノセリアCMPスラー (100nm粒子サイズ) は,半導体および高度な表面仕上げのために設計されています. 安定した分散,高い除去率,超低表面欠陥. ナノメートルの表面制御を必要とする次世代の精密ポリシングプロセスに最適です 主要 な 特徴 と 利点 ナノスケール精密磨き 100nmのセリア粒子はナノメートルのレベルで制御された物質除去を可能にし,超滑らかな表面を必要とする高度なCMPプロセスに適している. 欠陥 が 少なく 除去 率 が 高く セリウム酸化物の最適化された化学活動は,傷,穴,残留欠...
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