Qualität High-Purity Nano Ceria CMP Slurry (200nm Partikelgröße) für Halbleiter entwickelt Fabrik
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High-Purity Nano Ceria CMP Slurry (200nm Partikelgröße) für Halbleiter entwickelt

Markenbezeichnung: LICHEN
Modellnummer: LC
Herkunftsort: China
Zertifizierung: ISO
Mindestbestellmenge: 20 kg
Preis: NEGOCIABLE
Versorgungsfähigkeit: 3000MT/year

Produktdetails


D50: 200Nm Agglomeration: Extrem niedrig
CeO2: 99 % solider Inhalt: 20 Gew.-%
pH-Bereich: 6,5 – 8,5 Aussehen: Weiß
Hervorheben

Nanoceria CMP-Schlamm Halbleiter

,

hochreine Schleimmasse für das Polieren von Keramik

,

200nm Partikelgröße CMP-Schlamm

Produkt-Beschreibung


High-Purity Nano Ceria CMP Slurry (200nm Partikelgröße) für Halbleiter entwickelt

Beschreibungauf

Hohe Reinheit Nano-Ceria CMP-Schlamm (100nm Partikelgröße) für Halbleiter und fortschrittliche Oberflächenveredelung.

Es ist ideal für Präzisionspolierverfahren der nächsten Generation geeignet, bei denen eine Oberflächenkontrolle auf Nanometerebene erforderlich ist.

 

Hauptmerkmale und Vorteile

Präzisionspolieren auf Nanoskala

Die 100 nm Ceria-Partikel ermöglichen eine kontrollierte Materialentfernung auf Nanometerebene, wodurch der Schlamm für fortschrittliche CMP-Prozesse geeignet ist, die eine ultragleite Oberfläche erfordern.

Hohe Entfernungsrate bei geringen Defekten

Die optimierte chemische Aktivität von Ceriumoxid sorgt für eine effiziente Polierung und minimiert dabei Kratzer, Gruben und Restfehler.

Ausgezeichnete Dispersionsstabilität

Positives Zeta-Potential-Design gewährleistet die langfristige Stabilität des Schlamms und verhindert die Agglomeration von Partikeln während der Lagerung und des Betriebs.

Höhere Oberflächenqualität

Erreicht eine Spiegelqualität der Oberfläche mit extrem geringer Rauheit (Ra) und verbessert die nachgelagerte Beschichtung, die Lithographie und die Leistung des Geräts.

Prozesskompatibilität

Kompatibel mit den wichtigsten CMP-Plattformen, Polierplatten und automatisierten Schlammversorgungssystemen.



PartikelgrößenverteilungDie


High-Purity Nano Ceria CMP Slurry (200nm Partikelgröße) für Halbleiter entwickelt 0

Fragen und Antworten

1- Was ist Seltenerdpolishingpulver?

Seltenerdpolster ist eine hochreine Verbindung, die zum Polieren optischer Komponenten, Halbleiterwafern und empfindlicher Oberflächen wie Glas und Linsen verwendet wird.mit einem hohen Durchsichtigkeitsgrad ohne Materialschädigung.

2Wie wähle ich das richtige Polarpulver für seltene Erden für meine Anwendung?

Um das ideale Polierpulver auszuwählen, sollten Sie Faktoren wie das zu polierende Material, das erforderliche Finish und Spezifikationen wie Partikelgröße und Reinheit berücksichtigen.Unser Verkaufsteam hilft Ihnen bei der Auswahl des perfekten Produkts für Ihre Bedürfnisse..

3Wie sollte ich das Polierpulver für seltene Erden aufbewahren?

Bewahren Sie das Pulver in luftdichten Behältern auf, um Kontamination zu vermeiden und seine Wirksamkeit zu erhalten.Es dauert in der Regel 1-2 Jahre.

4Liefern Sie maßgeschneiderte Seltenerdformulationen?

Ja, wir bieten spezielle Polarpulver und Schlamm für seltene Erden an, die auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten sind, einschließlich der Anpassung der Partikelgröße, der chemischen Zusammensetzung oder der Konsistenz des Schlamms.

5Kann ich eine Probe bekommen, bevor ich eine Großbestellung mache?

Wir stellen Proben zur Auswertung zur Verfügung. Kontaktieren Sie unser Team, um eine Probe anzufordern, und wir arrangieren die Lieferung.

6Wie kann ich eine Bestellung aufgeben?

Um eine Bestellung zu platzieren, kontaktieren Sie einfach unser Verkaufsteam, das Sie durch den Prozess führt und Ihnen ein Angebot bietet.Und wir geben Ihnen einen geschätzten Zeitplan, sobald die Bestellung bestätigt ist..

Produkt-Highlights

High-Purity Nano Ceria CMP Slurry (200nm Partikelgröße) für Halbleiter entwickelt Beschreibungauf Hohe Reinheit Nano-Ceria CMP-Schlamm (100nm Partikelgröße) für Halbleiter und fortschrittliche Oberflächenveredelung. Es ist ideal für Präzisionspolierverfahren der nächsten Generation geeignet, bei ...

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