Qualidade Suspensão de Nano Céria CMP de Alta Pureza (Tamanho de Partícula de 200nm) Projetada para Semicondutores Fábrica
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Suspensão de Nano Céria CMP de Alta Pureza (Tamanho de Partícula de 200nm) Projetada para Semicondutores

Nome da marca: LICHEN
Número do modelo: LC
Lugar de origem: China
Certificação: ISO
Quantidade mínima do pedido: 20kg
Preço: NEGOCIABLE
Capacidade de abastecimento: 3000MT/year

Detalhes do produto


D50: 200Nm Aglomeração: Extremamente baixo
CeO₂: 99% conteúdo sólido: 20% em peso
Faixa de pH: 6,5 – 8,5 aparência: Branco
Destacar

suspensão de nano céria CMP para semicondutores

,

suspensão de polimento de céria de alta pureza

,

suspensão CMP com tamanho de partícula de 200nm

Descrição do produto


Slurry Nano Ceria CMP de alta pureza (200nm de tamanho de partícula) concebido para semicondutores

Descriçõesem

Slurry CMP de nanoceria de alta pureza (100nm de tamanho de partícula) projetado para semicondutores e acabamento de superfície avançado. Dispersão estável, alta taxa de remoção e defeitos de superfície ultra-bajos.

É ideal para processos de polimento de precisão de próxima geração que exigem controle de superfície a nível de nanômetros.

 

Principais características e vantagens

Poluição de precisão em nanoescala

As partículas de ceria de 100 nm permitem a remoção controlada de material a nível nanométrico, tornando a lama adequada para processos avançados de CMP que requerem superfícies ultra- suaves.

Alta taxa de remoção com baixos defeitos

A atividade química otimizada do óxido de cério fornece polir eficiente, minimizando arranhões, buracos e defeitos residuais.

Excelente estabilidade de dispersão

O projeto de potencial zeta positivo garante a estabilidade a longo prazo da lama, evitando a aglomeração de partículas durante o armazenamento e a operação.

Qualidade superior da superfície

Obtém acabamentos de superfície de grau espelho com uma rugosidade extremamente baixa (Ra), melhorando o revestimento a jusante, a litografia e o desempenho do dispositivo.

Compatibilidade dos processos

Compatível com as principais plataformas CMP, almofadas de polimento e sistemas automatizados de entrega de lodo.



Distribuição do tamanho das partículasAção


Suspensão de Nano Céria CMP de Alta Pureza (Tamanho de Partícula de 200nm) Projetada para Semicondutores

Perguntas e respostas

1O que é pó de polimento de terras raras?

O pó de polimento de terras raras é um composto de alta pureza usado para polir componentes ópticos, wafers de semicondutores e superfícies delicadas como vidro e lentes.acabamento de alta transparência sem danificar o material.

2Como escolho o pó de polimento de terras raras adequado para a minha aplicação?

Para escolher o pó de polimento ideal, considere fatores como o material que está a polir, o acabamento exigido e especificações como o tamanho e a pureza das partículas.A nossa equipa de vendas está disponível para ajudá-lo a escolher o produto perfeito para as suas necessidades.

3Como devo armazenar o pó de polir de terras raras?

Manter em local fresco e seco, longe da humidade e da luz solar direta.Normalmente dura 1-2 anos.

4Fornece formulações personalizadas de terras raras?

Sim, oferecemos pó e lodos de polir terras raras personalizados, adaptados às suas necessidades específicas, incluindo ajustes no tamanho das partículas, composição química ou consistência da lodo.

5Posso obter uma amostra antes de fazer uma encomenda em massa?

Nós fornecemos amostras para avaliação, entre em contacto com a nossa equipa para solicitar uma amostra e nós vamos organizar o envio.

6Como posso fazer uma encomenda? Qual é o prazo típico de entrega?

Para fazer um pedido, basta entrar em contato com a nossa equipe de vendas, que irá guiá-lo através do processo e fornecer uma cotação.E vamos dar-lhe um calendário estimado assim que a encomenda for confirmada..

Destaques do Produto

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