Высокочистая суспензия для CMP с наночастицами оксида церия (размер частиц 200 нм), разработанная для полупроводниковой промышленности
Детали продукта
| D50: | 200Nm | Агломерация: | Чрезвычайно низко |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 99% | солидное содержание: | 20% масс. |
| Диапазон Ph: | 6,5 – 8,5 | появление: | Белый |
| Выделить |
суспензия для CMP с наночастицами оксида церия для полупроводниковой промышленности,высокочистая полировальная суспензия с оксидом церия,суспензия для CMP с размером частиц 200 нм |
||
Характер продукции
Высокочистая суспензия для химико-механической планаризации (ХМП) с наночастицами оксида церия (размер частиц 200 нм), разработанная для полупроводниковой промышленности
Описание
Высокочистая суспензия для химико-механической планаризации (ХМП) с наночастицами оксида церия (размер частиц 100 нм), разработанная для полупроводниковой промышленности и финишной обработки поверхностей. Стабильная дисперсия, высокая скорость удаления материала и ультранизкий уровень дефектов поверхности.
Идеально подходит для процессов прецизионной полировки нового поколения, требующих контроля поверхности на нанометровом уровне.
Ключевые особенности и преимущества
Наноразмерная прецизионная полировка
Частицы оксида церия размером 100 нм обеспечивают контролируемое удаление материала на нанометровом уровне, что делает суспензию подходящей для передовых процессов ХМП, требующих ультрагладких поверхностей.
Высокая скорость удаления материала при низком уровне дефектов
Оптимизированная химическая активность оксида церия обеспечивает эффективную полировку при минимизации царапин, раковин и остаточных дефектов.
Отличная стабильность дисперсии
Дизайн с положительным дзета-потенциалом обеспечивает долговременную стабильность суспензии, предотвращая агломерацию частиц при хранении и эксплуатации.
Превосходное качество поверхности
Обеспечивает зеркальную чистоту поверхности с чрезвычайно низкой шероховатостью (Ra), улучшая последующее нанесение покрытий, литографию и производительность устройств.
Совместимость с процессами
Совместима с основными платформами ХМП, полировальными кругами и автоматизированными системами подачи суспензий.
Распределение по размерам частиц

Вопросы и ответы
1. Что такое полировальный порошок из редкоземельных элементов?
Полировальный порошок из редкоземельных элементов — это высокочистое соединение, используемое для полировки оптических компонентов, полупроводниковых пластин и деликатных поверхностей, таких как стекло и линзы. Он обеспечивает гладкую, высокочистую отделку без повреждения материала.
2. Как выбрать подходящий полировальный порошок из редкоземельных элементов для моего применения?
Чтобы выбрать идеальный полировальный порошок, учитывайте такие факторы, как материал, который вы полируете, требуемая отделка и такие характеристики, как размер частиц и чистота. Наша команда продаж готова помочь вам выбрать идеальный продукт для ваших нужд.
3. Как следует хранить полировальный порошок из редкоземельных элементов?
Хранить в прохладном, сухом месте, вдали от влаги и прямых солнечных лучей. Храните порошок в герметичных контейнерах, чтобы предотвратить загрязнение и сохранить его эффективность. При правильном хранении он обычно хранится 1-2 года.
4. Предоставляете ли вы индивидуальные составы редкоземельных элементов?
Да, мы предлагаем индивидуальные полировальные порошки и суспензии из редкоземельных элементов, разработанные с учетом ваших конкретных потребностей, включая корректировку размера частиц, химического состава или консистенции суспензии.
5. Могу ли я получить образец перед оформлением оптового заказа?
Абсолютно! Мы предоставляем образцы для оценки. Свяжитесь с нашей командой, чтобы запросить образец, и мы организуем доставку.
6. Как я могу разместить заказ? Каково типичное время доставки?
Чтобы разместить заказ, просто свяжитесь с нашей командой продаж, которая проведет вас через весь процесс и предоставит расценки. Время доставки зависит от размера заказа, местоположения и наличия на складе, и мы предоставим вам примерный график после подтверждения заказа.
Основные характеристики продукта
Высокочистая суспензия для химико-механической планаризации (ХМП) с наночастицами оксида церия (размер частиц 200 нм), разработанная для полупроводниковой промышленности Описание Высокочистая суспензия для химико-механической планаризации (ХМП) с наночастицами оксида церия (размер частиц 100 нм), ра...
Полировальный порошок на основе оксида церия класса CMP для AR-оптики, массивов микролинз и носимых оптических датчиков
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Сверхтонкий полировальный порошок оксида церия для смарт-носимых устройств, защитных стекол и микрооптики
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Полирующий порошок с оксидом церия высокой чистоты для производства стекла с волноводом AR и оптических линз
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Оксалат церия в порошке Химический реагент элементы
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Пожалуйста, воспользуйтесь нашей онлайн-формой для запроса, если у вас есть вопросы, наша команда свяжется с вами как можно скорее.