Slurry CMP Nano Ceria Kemurnian Tinggi (Ukuran Partikel 200nm) Dirancang Untuk Semikonduktor
Rincian produk
| D50: | 100nm | Pengelompokan: | Sangat rendah |
|---|---|---|---|
| CEO₂: | 99% | konten padat: | Dapat disesuaikan |
| Kisaran Ph: | 6.5 – 8.5 | Penampilan: | Suspensi putih |
| Menyoroti |
slurry CMP nano ceria semikonduktor,slurry poles ceria kemurnian tinggi,slurry CMP ukuran partikel 200nm |
||
Deskripsi Produk
Slurry CMP Nano Ceria Kemurnian Tinggi (Ukuran Partikel 200nm) Dirancang Untuk Semikonduktor
Deskripsi
Slurry CMP nano ceria kemurnian tinggi (ukuran partikel 100nm) dirancang untuk semikonduktor dan penyelesaian permukaan tingkat lanjut. Dispersi stabil, tingkat penghilangan tinggi, dan cacat permukaan ultra-rendah.
Ideal untuk proses pemolesan presisi generasi mendatang yang menuntut kontrol permukaan tingkat nanometer.
Fitur & Keunggulan Utama
Pemolesan Presisi Skala Nano
Partikel ceria 100 nm memungkinkan penghilangan material terkontrol pada tingkat nanometer, menjadikan slurry cocok untuk proses CMP tingkat lanjut yang membutuhkan permukaan ultra-halus.
Tingkat Penghilangan Tinggi dengan Cacat Rendah
Aktivitas kimia oksida cerium yang dioptimalkan memberikan pemolesan yang efisien sambil meminimalkan goresan, lubang, dan cacat sisa.
Stabilitas Dispersi yang Sangat Baik
Desain potensial zeta positif memastikan stabilitas slurry jangka panjang, mencegah aglomerasi partikel selama penyimpanan dan pengoperasian.
Kualitas Permukaan Unggul
Mencapai hasil akhir permukaan tingkat cermin dengan kekasaran yang sangat rendah (Ra), meningkatkan kinerja pelapisan, litografi, dan perangkat hilir.
Kompatibilitas Proses
Kompatibel dengan platform CMP utama, bantalan pemoles, dan sistem pengiriman slurry otomatis.
Distribusi Ukuran PartikelTanya Jawab

1. Apa itu bubuk pemolesan tanah jarang?
Bubuk pemolesan tanah jarang adalah senyawa kemurnian tinggi yang digunakan untuk memoles komponen optik, wafer semikonduktor, dan permukaan halus seperti kaca dan lensa. Ini memberikan hasil akhir yang halus dan jernih tanpa merusak material.
2. Bagaimana cara memilih bubuk pemolesan tanah jarang yang tepat untuk aplikasi saya?
Untuk memilih bubuk pemolesan yang ideal, pertimbangkan faktor-faktor seperti material yang Anda poles, hasil akhir yang dibutuhkan, dan spesifikasi seperti ukuran partikel dan kemurnian. Tim penjualan kami siap membantu Anda memilih produk yang sempurna untuk kebutuhan Anda.
3. Bagaimana cara menyimpan bubuk pemolesan tanah jarang?
Simpan di tempat yang sejuk dan kering, jauh dari kelembaban dan sinar matahari langsung. Simpan bubuk dalam wadah kedap udara untuk mencegah kontaminasi dan menjaga efektivitasnya. Dengan penyimpanan yang tepat, biasanya bertahan 1-2 tahun.
4. Apakah Anda menyediakan formulasi tanah jarang yang disesuaikan?
Ya, kami menawarkan bubuk dan slurry pemolesan tanah jarang khusus, yang disesuaikan untuk memenuhi kebutuhan spesifik Anda, termasuk penyesuaian ukuran partikel, komposisi kimia, atau konsistensi slurry.
5. Bisakah saya mendapatkan sampel sebelum melakukan pesanan massal?
Tentu saja! Kami menyediakan sampel untuk evaluasi. Hubungi tim kami untuk meminta sampel, dan kami akan mengatur pengirimannya.
6. Bagaimana cara memesan? Berapa perkiraan waktu pengiriman?
Untuk memesan, cukup hubungi tim penjualan kami, yang akan memandu Anda melalui prosesnya dan memberikan penawaran. Waktu pengiriman bervariasi berdasarkan ukuran pesanan, lokasi, dan ketersediaan stok, dan kami akan memberi Anda jadwal perkiraan setelah pesanan dikonfirmasi.
Sorotan Produk
Slurry CMP Nano Ceria Kemurnian Tinggi (Ukuran Partikel 200nm) Dirancang Untuk Semikonduktor Deskripsi Slurry CMP nano ceria kemurnian tinggi (ukuran partikel 100nm) dirancang untuk semikonduktor dan penyelesaian permukaan tingkat lanjut. Dispersi stabil, tingkat penghilangan tinggi, dan cacat ...
Nano Ceria CMP Slurry. Ultra-Fine Cerium Oksida Slurry Untuk Semikonduktor Presisi Tinggi & Optical Polishing
Nano Ceria CMP Slurry. Ultra-Fine Cerium Oksida Slurry Untuk Semikonduktor Presisi Tinggi & Optical Polishing Deskripsipada Nano Ceria CMP Slurry is a high-purity cerium oxide polishing slurry specifically developed for advanced Chemical Mechanical Planarization (CMP) applications requiring precise ...
Slurry CMP Nano Ceria Kemurnian Tinggi (Ukuran Partikel 200nm) Dirancang Untuk Semikonduktor
Slurry CMP Nano Ceria Kemurnian Tinggi (Ukuran Partikel 200nm) Dirancang Untuk Semikonduktor Deskripsi Slurry CMP nano ceria kemurnian tinggi (ukuran partikel 100nm) dirancang untuk semikonduktor dan penyelesaian permukaan tingkat lanjut. Dispersi stabil, tingkat penghilangan tinggi, dan cacat ...
Slurry CMP Nano Ceria 100nm | Slurry CMP Oksida Cerium Kinerja Tinggi Untuk Semikonduktor
Nano Ceria CMP Slurry 100nm High-Performance Cerium Oxide CMP Slurry Untuk Semikonduktor Deskripsipada Nano Ceria CMP Slurry (100 nm) adalah bahan polishing mekanik kimia (CMP) berkinerja tinggi yang dirumuskan menggunakan partikel cerium oksida nanometer ultra-halus.Lurry ini dirancang untuk ...
Solusi bubuk senyawa tanah langka yttrium khusus untuk farmasi
Solusi Serbuk Senyawa Yttrium Rare Earth Kustom untuk obat-obatan Ringkasan: Bubuk senyawa tanah jarang berbahan dasar yttrium khusus kami dirancang untuk memenuhi persyaratan kualitas, kemurnian, dan konsistensi yang ketat dalam penelitian dan manufaktur farmasi. Memanfaatkan teknologi sintesis dan ...
Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.