Slurry CMP Nano Ceria Kemurnian Tinggi (Ukuran Partikel 200nm) Dirancang Untuk Semikonduktor
Rincian produk
| D50: | 200Nm | Pengelompokan: | Sangat rendah |
|---|---|---|---|
| CEO₂: | 99% | konten padat: | 20% berat |
| Kisaran Ph: | 6.5 – 8.5 | Penampilan: | Putih |
| Menyoroti |
slurry CMP nano ceria semikonduktor,slurry poles ceria kemurnian tinggi,slurry CMP ukuran partikel 200nm |
||
Deskripsi Produk
Slurry CMP Nano Ceria Kemurnian Tinggi (Ukuran Partikel 200nm) Dirancang Untuk Semikonduktor
Deskripsi
Slurry CMP nano ceria kemurnian tinggi (ukuran partikel 100nm) dirancang untuk semikonduktor dan penyelesaian permukaan tingkat lanjut. Dispersi stabil, tingkat penghilangan tinggi, dan cacat permukaan ultra-rendah.
Ideal untuk proses pemolesan presisi generasi mendatang yang menuntut kontrol permukaan tingkat nanometer.
Fitur & Keunggulan Utama
Pemolesan Presisi Skala Nano
Partikel ceria 100 nm memungkinkan penghilangan material terkontrol pada tingkat nanometer, menjadikan slurry cocok untuk proses CMP tingkat lanjut yang membutuhkan permukaan ultra-halus.
Tingkat Penghilangan Tinggi dengan Cacat Rendah
Aktivitas kimia oksida cerium yang dioptimalkan memberikan pemolesan yang efisien sambil meminimalkan goresan, lubang, dan cacat sisa.
Stabilitas Dispersi yang Sangat Baik
Desain potensial zeta positif memastikan stabilitas slurry jangka panjang, mencegah aglomerasi partikel selama penyimpanan dan pengoperasian.
Kualitas Permukaan Unggul
Mencapai hasil akhir permukaan tingkat cermin dengan kekasaran yang sangat rendah (Ra), meningkatkan kinerja pelapisan, litografi, dan perangkat hilir.
Kompatibilitas Proses
Kompatibel dengan platform CMP utama, bantalan pemoles, dan sistem pengiriman slurry otomatis.
Distribusi Ukuran PartikelTanya Jawab

1. Apa itu bubuk pemolesan tanah jarang?
Bubuk pemolesan tanah jarang adalah senyawa kemurnian tinggi yang digunakan untuk memoles komponen optik, wafer semikonduktor, dan permukaan halus seperti kaca dan lensa. Ini memberikan hasil akhir yang halus dan jernih tanpa merusak material.
2. Bagaimana cara memilih bubuk pemolesan tanah jarang yang tepat untuk aplikasi saya?
Untuk memilih bubuk pemolesan yang ideal, pertimbangkan faktor-faktor seperti material yang Anda poles, hasil akhir yang dibutuhkan, dan spesifikasi seperti ukuran partikel dan kemurnian. Tim penjualan kami siap membantu Anda memilih produk yang sempurna untuk kebutuhan Anda.
3. Bagaimana cara menyimpan bubuk pemolesan tanah jarang?
Simpan di tempat yang sejuk dan kering, jauh dari kelembaban dan sinar matahari langsung. Simpan bubuk dalam wadah kedap udara untuk mencegah kontaminasi dan menjaga efektivitasnya. Dengan penyimpanan yang tepat, biasanya bertahan 1-2 tahun.
4. Apakah Anda menyediakan formulasi tanah jarang yang disesuaikan?
Ya, kami menawarkan bubuk dan slurry pemolesan tanah jarang khusus, yang disesuaikan untuk memenuhi kebutuhan spesifik Anda, termasuk penyesuaian ukuran partikel, komposisi kimia, atau konsistensi slurry.
5. Bisakah saya mendapatkan sampel sebelum melakukan pesanan massal?
Tentu saja! Kami menyediakan sampel untuk evaluasi. Hubungi tim kami untuk meminta sampel, dan kami akan mengatur pengirimannya.
6. Bagaimana cara memesan? Berapa perkiraan waktu pengiriman?
Untuk memesan, cukup hubungi tim penjualan kami, yang akan memandu Anda melalui prosesnya dan memberikan penawaran. Waktu pengiriman bervariasi berdasarkan ukuran pesanan, lokasi, dan ketersediaan stok, dan kami akan memberi Anda jadwal perkiraan setelah pesanan dikonfirmasi.
Sorotan Produk
Slurry CMP Nano Ceria Kemurnian Tinggi (Ukuran Partikel 200nm) Dirancang Untuk Semikonduktor Deskripsi Slurry CMP nano ceria kemurnian tinggi (ukuran partikel 100nm) dirancang untuk semikonduktor dan penyelesaian permukaan tingkat lanjut. Dispersi stabil, tingkat penghilangan tinggi, dan cacat ...
Bubuk Poles Ceria Tingkat CMP untuk Optik AR, Susunan Lensa Mikro & Sensor Optik yang Dapat Dipakai
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder Untuk Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Powder Polishing Cerium Oxide Kemurnian Tinggi Untuk AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Bubuk Oksalat Serium Reagen Kimia Unsur
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.