Qualità Nano Ceria CMP Slurry ad alta purezza (dimensione particelle 200 nm) Progettato per semiconduttori Fabbrica
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Nano Ceria CMP Slurry ad alta purezza (dimensione particelle 200 nm) Progettato per semiconduttori

Marchio: LICHEN
Numero di modello: LC
Luogo di origine: Cina
Certificazione: ISO
Quantità di ordine minimo: 20KG
Prezzo: NEGOCIABLE
Capacità di approvvigionamento: 3000MT/year

Dettagli del prodotto


D50: 200Nm Agglomerazione: Estremamente basso
CeO2: 99% contenuto solido: 20% in peso
Intervallo di pH: 6.5 – 8.5 aspetto: Bianco
Evidenziare

slurry CMP nano ceria semiconduttore

,

slurry lucidante ceria ad alta purezza

,

slurry CMP con dimensione particelle 200 nm

Descrizione di prodotto


Slurry Nano Ceria CMP ad alta purezza (dimensione delle particelle 200 nm) progettato per semiconduttori

Descrizionisu

Slurry CMP di nanoceria di alta purezza (dimensione delle particelle di 100 nm) progettato per semiconduttori e finitura avanzata della superficie.

È ideale per i processi di lucidatura di precisione di nuova generazione che richiedono un controllo superficiale a livello nanometrico.

 

Caratteristiche chiave e vantaggi

La lucidatura di precisione su scala nanometrica

Le particelle di ceria da 100 nm consentono la rimozione controllata del materiale a livello nanometrico, rendendo l'impasto adatto a processi avanzati di CMP che richiedono superfici ultra lisce.

Alto tasso di rimozione con bassi difetti

L'attività chimica ottimizzata dell'ossido di cerio fornisce una lucidatura efficiente riducendo al minimo graffi, buche e difetti residui.

Eccellente stabilità di dispersione

La progettazione del potenziale zeta positivo garantisce la stabilità a lungo termine del liquame, evitando l'agglomerazione di particelle durante lo stoccaggio e il funzionamento.

Qualità superficiale superiore

Raggiunge finiture superficiali a livello di specchio con rugosità estremamente bassa (Ra), migliorando il rivestimento a valle, la litografia e le prestazioni del dispositivo.

Compatibilità dei processi

Compatibile con le principali piattaforme CMP, pad di lucidatura e sistemi automatici di distribuzione dello slurry.



Distribuzione della dimensione delle particelleLa Commissione


Nano Ceria CMP Slurry ad alta purezza (dimensione particelle 200 nm) Progettato per semiconduttori 0

Domande e risposte

1Cos'è la polvere di lucidatura delle terre rare?

La polvere di lucidatura delle terre rare è un composto di alta purezza usato per lucidare componenti ottici, wafer semiconduttori e superfici delicate come vetro e lenti.finitura di alta lucidità senza danneggiare il materiale.

2Come scegliere la polvere di lucidatura per terre rare adatta alla mia applicazione?

Per scegliere la polvere di lucidatura ideale, considera fattori quali il materiale che stai lucidando, la finitura richiesta e specifiche come le dimensioni e la purezza delle particelle.Il nostro team di vendita è disponibile per aiutarvi a scegliere il prodotto perfetto per le vostre esigenze.

3Come stoccare la polvere di lucidatura delle terre rare?

Conservare in un luogo fresco e asciutto, lontano dall' umidità e dalla luce solare diretta.in genere dura 1-2 anni.

4Fornisce formulazioni di terre rare su misura?

Sì, offriamo polveri di lucidatura e liquami di terre rare personalizzati, su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche, incluse le modifiche alle dimensioni delle particelle, alla composizione chimica o alla consistenza dello liquamo.

5Posso avere un campione prima di fare un ordine in massa?

Assolutamente! Forniamo campioni per la valutazione. Contattate il nostro team per richiedere un campione, e organizzeremo la spedizione.

6Come posso effettuare un ordine?

Per effettuare un ordine, basta contattare il nostro team di vendita, che vi guiderà attraverso il processo e vi fornirà un preventivo.E vi daremo un programma stimato una volta confermato l'ordine..

Caratteristiche del prodotto

Slurry Nano Ceria CMP ad alta purezza (dimensione delle particelle 200 nm) progettato per semiconduttori Descrizionisu Slurry CMP di nanoceria di alta purezza (dimensione delle particelle di 100 nm) progettato per semiconduttori e finitura avanzata della superficie. È ideale per i processi di ...

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