Ceria CMP-slijm zonder schrammen voor het polijsten van halfgeleiders en siliciumwafers
Productdetails
| Abrasief materiaal: | CeO₂ | Deeltjesgrootte (D50): | 80 – 200 nm |
|---|---|---|---|
| stevige inhoud: | 5 – 30 gew.% | pH: | 6,5 – 8,5 |
| verschijning: | Witte slurry | Dispersiestabiliteit: | Hoog |
| Markeren |
Ceria CMP-slib voor het polijsten van halfgeleiders,Schroefvrij poetsmiddel voor siliciumwafers,Zeldzame aardmetalen CMP slurry met garantie |
||
Productomschrijving
Krasvrije Ceria CMP Slurry voor Halfgeleider & Silicium Wafers Polijsten
Productoverzicht
Krasvrije Ceriumoxide CMP Slurry is speciaal geformuleerd voor het polijsten van halfgeleiderwafers en geavanceerde substraten waar defectcontrole en ultra-gladde oppervlakken cruciaal zijn. De speciaal ontworpen nano-schaal ceriumoxide deeltjes zorgen voor superieure defectreductie met behoud van stabiele verwijderings efficiëntie.
Ideaal voor het afwerken van siliciumwafers en precisie halfgeleiderfabricageprocessen.
Belangrijkste Kenmerken
- Ultra-lage kras- en defectgeneratie
- Hoge planariserings efficiëntie
- Uitstekende waferoppervlakte uniformiteit
- Verminderde micro-krassen en putjes
- Technologie voor lage deeltjesagglomeratie
- Geschikt voor geavanceerde CMP-platforms
Deeltjesgrootte Distributie
Toepassingen
- Precisie optische lenzen polijsten
- Photonica substraten en optisch glas afwerken
- Planariseren van laser kristaloppervlakken
- Cameraoptiek en beeldsystemen
- Prisma en spiegel polijsten
- Optische communicatiecomponenten
Veelgestelde Vragen
V1. Waarvoor wordt Ceriumoxide CMP slurry gebruikt?
Ceriumoxide CMP slurry is een chemisch-mechanisch polijstmiddel ontworpen voor ultra-precisie oppervlakteafwerking. Het combineert mechanische slijtage en chemische interactie om een hoge materiaalverwijderings efficiëntie te bereiken met behoud van uitstekende oppervlaktegladheid.
V2. Hoe selecteer ik de juiste ceriumoxide slurry voor mijn toepassing?
De selectie is voornamelijk afhankelijk van het materiaaltype en het procesdoel.
Ons technische team kan helpen bij het optimaliseren van de slurryselectie op basis van de polijstmachine, het padtype en de vereisten voor de oppervlaktekwaliteit.
V3. Welke materialen kunnen worden gepolijst met ceriumoxide slurry?
Ceriumoxide CMP slurry is geschikt voor een breed scala aan geavanceerde materialen:
- Optisch glas
- Saffier
- Siliciumwafers
- Laser kristallen (YAG, etc.)
- Photonica substraten
- Samengestelde halfgeleidermaterialen
Producthoogtepunten
Krasvrije Ceria CMP Slurry voor Halfgeleider & Silicium Wafers Polijsten Productoverzicht Krasvrije Ceriumoxide CMP Slurry is speciaal geformuleerd voor het polijsten van halfgeleiderwafers en geavanceerde substraten waar defectcontrole en ultra-gladde oppervlakken cruciaal zijn. De speciaal ...
Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings
Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings is a functional ceria powder developed for advanced surface protection systems where improved chemical stability, oxidation resistance, and coating durability are required...
Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings
Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings is engineered for coating systems exposed to elevated temperatures, oxidation, and demanding service conditions. CeO₂ has excellent thermal stability and ...
Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings
Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle ...
High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings
High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle size, ...
Gebruik ons online contactformulier als u vragen heeft, ons team zal u zo snel mogelijk contacteren.
