Slurry de céréa à haute performance pour les gaufres de saphir et le polissage des cristaux
Détails de produit
| Matériau abrasif: | oxyde de cérium de haute pureté | Taille des particules (D50): | 0,3 – 1,0 μm |
|---|---|---|---|
| contenu solide: | 10 – 30 % en poids | pH: | 6,5 – 9,0 |
| apparence: | Bouillie blanche | Finition de surface: | Ultra précision |
| Mettre en évidence |
Slurry de céréa pour le polissage des plaquettes de saphir,Slurry de polissage des terres rares pour les cristaux,Slurry de cérie de haute performance avec garantie |
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Description de produit
Suspension de cérium haute performance pour le polissage de plaquettes de saphir et de cristaux
Présentation du produit
Suspension de cérium professionnelle optimisée pour les applications de polissage de saphir dans les industries des semi-conducteurs et de l'optique. Permet une grande douceur de surface, une efficacité de polissage stable et de faibles dommages subsurfaciques pour les plaquettes de saphir, les substrats de LED et les cristaux optiques.
Caractéristiques principales
- Optimisé pour les matériaux durs de saphir
- Excellente efficacité de polissage et qualité de surface
- Faibles dommages subsurfaciques
- Performance chimique et mécanique stable
- Bonnes propriétés de dispersion et d'anti-sédimentation
- Prend en charge les processus de finition de plaquettes de précision
Distribution de la taille des particulesApplications
Polissage de plaquettes de saphir
- Polissage de substrats de LED
- Polissage de fenêtres optiques en saphir
- Finition de cristaux de semi-conducteurs
- Polissage de verres de montre
- Traitement de matériaux cristallins durs
- Pourquoi choisir Lichen comme votre fournisseur mondial
Fabricant dédié de suspensions de polissage au cérium et à l'alumine
- Chaîne d'approvisionnement stable en matières premières de terres rares
- Capacité d'ingénierie de particules personnalisée
- Contrôle qualité constant lot par lot
- Support technique pour l'optimisation des processus de polissage
Points forts du produit
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