Kalite Yarım iletken ve hassas optik sonlandırma için ultra ince sereum oksit cilalama tozu Fabrika
<
Kalite Yarım iletken ve hassas optik sonlandırma için ultra ince sereum oksit cilalama tozu Fabrika
>

Yarım iletken ve hassas optik sonlandırma için ultra ince sereum oksit cilalama tozu

Marka Adı: LICHEN
Model Numarası: LC
Menşe yeri: Çin
Sertifikasyon: ISO
Asgari sipariş miktarı: 20kg
Fiyat: Contact us
Tedarik Yeteneği: 3000MT/yıl

Ürün Ayrıntıları


Saflık: ≥99.99 Aglomerasyon Kontrolü: Düşük
Medyan Parçacık Boyutu: 0,3 – 0,6 mikron pH (Bulamaç Hazırlama): 6,5 – 7,5
Ulaşılabilir Yüzey Pürüzlülüğü: Nanometre altı seviyesi Uyumluluk: CMP parlatma sistemleri
Vurgulamak

yarı iletkenler için serium oksit cilalama tozu

,

ultra ince nadir toprak cilalama tozu

,

hassas optik sonlandırma cerium oksit

Ürün Tanımı


Yarım iletken ve hassas optik sonlandırma için ultra ince sereum oksit cilalama tozu

Ürün Genel Görünümü

Gelişmiş yarı iletken ve ultra hassas optik bitirme için tasarlanan bu ultra ince ceria cilalama tozu, olağanüstü yüzey düzleştirme ve kusur en aza indirmek sağlar.Optimize edilmiş parçacık mühendisliği, yüksek hassasiyetli optik ve wafer işleme ortamlarında yeni nesil cilalama gereksinimlerini destekler.

Yüksek kaliteli yarı iletken, havacılık optik ve metroloji uygulamaları için uygundur.


Parçacık Boyutu Dağıtımİlişki

Yarım iletken ve hassas optik sonlandırma için ultra ince sereum oksit cilalama tozu 0

Başvurular

  • Yarı iletken plaka cilalama
  • Silikon levha bitirme
  • Yüksek hassasiyetli aynalar
  • Havacılık optikleri
  • Metroloji ve denetim optikleri


Neden Lichen'i Dünya Çapındaki Tedarikçiniz Olarak Seçin?

  • Özel ceria ve alümina cilalama üreticisi
  • Dayanıklı nadir toprak hammadde tedarik zinciri
  • Özel parçacık mühendisliği yeteneği
  • Seriye seri tutarlı kalite kontrolü
  • Polişleme sürecini optimize etmek için teknik destek

Ürün Özellikleri

Yarım iletken ve hassas optik sonlandırma için ultra ince sereum oksit cilalama tozu Ürün Genel Görünümü Gelişmiş yarı iletken ve ultra hassas optik bitirme için tasarlanan bu ultra ince ceria cilalama tozu, olağanüstü yüzey düzleştirme ve kusur en aza indirmek sağlar.Optimize edilmiş parçacık m...

İlişkili Ürünler
Kalite Scratch-Free Ceria CMP Slurry for Semiconductor & Silicon Wafer Polishing Fabrika

Scratch-Free Ceria CMP Slurry for Semiconductor & Silicon Wafer Polishing

Scratch-Free Ceria CMP Slurry for Semiconductor & Silicon Wafer Polishing Product Overview Scratch-Free Cerium Oxide CMP Slurry is specially formulated for semiconductor wafer and advanced substrate polishing where defect control and ultra-smooth surfaces are critical. The engineered nano-scale ceria particles provide superior defect reduction while maintaining stable removal efficiency. Ideal for silicon wafer finishing and precision semiconductor fabrication processes. Key

Kalite Ultra-Precision Cerium Oxide Slurry for Laser Crystals & Advanced Optical Materials Fabrika

Ultra-Precision Cerium Oxide Slurry for Laser Crystals & Advanced Optical Materials

Ultra-Precision Cerium Oxide Slurry for Laser Crystals & Advanced Optical Materials Product Overview Ultra-Precision Cerium Oxide Slurry is developed for final polishing of high-value optical and laser materials requiring high-level surface quality. The controlled particle distribution enables superior surface finish while preserving material integrity. Optimized for polishing hard and brittle materials used in laser, photonics, and high-performance optical systems. Key

Kalite High Removal Rate Cerium Oxide CMP Slurry for Optical Glass & Photonics Components Fabrika

High Removal Rate Cerium Oxide CMP Slurry for Optical Glass & Photonics Components

High Removal Rate Cerium Oxide CMP Slurry for Optical Glass & Photonics Components Product Overview High Removal Rate Cerium Oxide CMP Slurry is engineered for precision polishing of optical glass and photonic components requiring fast material removal with controlled surface quality. The optimized particle morphology enables efficient planarization while maintaining excellent surface integrity and process stability. Designed for advanced optical manufacturing, this slurry

Kalite Optik cam ve yarı iletken cilalama için yüksek çıkarma oranı Ceria çamur Fabrika

Optik cam ve yarı iletken cilalama için yüksek çıkarma oranı Ceria çamur

High Removal Rate Ceria Slurry for Optical Glass and Semiconductor Polishing Product Overview High removal rate ceria slurry developed for fast and efficient polishing of optical glass and semiconductor substrates. Combines excellent material removal performance with stable surface quality to improve production efficiency and reduce processing time. Key Features High polishing efficiency and throughput Fast material removal capability Excellent process stability Reduced

Teklif Et

Herhangi bir sorunuz varsa lütfen aşağıdaki çevrimiçi talep iletişim formumuzu kullanın, ekibimiz en kısa sürede size geri dönüş yapacaktır.

En fazla 5 dosya yükleyebilirsiniz ve Her dosya boyutu en fazla 10 MB olabilir.