Ultrafeines Ceroxid-Poliermittel für die Oberflächenbearbeitung von Halbleitern und Präzisionsoptiken
Produktdetails
| Reinheit: | ≥ 99,99% | Agglomerationskontrolle: | Niedrig |
|---|---|---|---|
| Mittlere Partikelgröße: | 0,3 – 0,6 μm | pH-Wert (Aufschlämmungszubereitung): | 6,5 – 7,5 |
| Oberflächenrauheit erreichbar: | Sub-Nanometer-Ebene | Kompatibilität: | CMP-Poliersysteme |
| Hervorheben |
Ceroxid-Poliermittel für Halbleiter,ultrafeines Polarpulver für seltene Erden,Ceroxid für die Oberflächenbearbeitung von Präzisionsoptiken |
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Produkt-Beschreibung
Ultrafeines Ceroxid-Poliermittel für die Oberflächenbearbeitung von Halbleitern und Präzisionsoptiken
Produktübersicht
Dieses ultrafeine Ceroxid-Poliermittel wurde für die fortschrittliche Oberflächenbearbeitung von Halbleitern und ultrapräzisen Optiken entwickelt und bietet eine außergewöhnliche Oberflächenplanarisierung und Defektminimierung. Die optimierte Partikeltechnik unterstützt die Anforderungen der nächsten Generation von Polierprozessen in Umgebungen mit hoher optischer Genauigkeit und Waferbearbeitung.
Geeignet für High-End-Anwendungen in den Bereichen Halbleiter, Luft- und Raumfahrtoptik und Messtechnik.
PartikelgrößenverteilungAnwendungen
Polieren von Halbleiterwafern
- Oberflächenbearbeitung von Siliziumwafern
- Hochpräzisionsspiegel
- Luft- und Raumfahrtoptik
- Messtechnik und Inspektionsoptiken
- Warum Lichen als Ihr globaler Lieferant wählen
Spezialisierter Hersteller von Ceroxid- und Aluminiumoxid-Poliermitteln
- Stabile Lieferkette für Seltene Erden als Rohmaterial
- Maßgeschneiderte Partikeltechnik
- Konsistente Qualitätskontrolle von Charge zu Charge
- Technische Unterstützung bei der Optimierung von Polierprozessen
Produkt-Highlights
Ultrafeines Ceroxid-Poliermittel für die Oberflächenbearbeitung von Halbleitern und Präzisionsoptiken Produktübersicht Dieses ultrafeine Ceroxid-Poliermittel wurde für die fortschrittliche Oberflächenbearbeitung von Halbleitern und ultrapräzisen Optiken entwickelt und bietet eine außergewöhnliche ...
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Ceria-Schlamm mit hoher Entfernungsrate für das Polieren von optischem Glas und Halbleitern
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