半導体および精密光学仕上げ用超微細酸化セリウム研磨粉
製品詳細
| 純度: | 99.99％以上 | 凝集制御: | 低い |
|---|---|---|---|
| 中央粒子径: | 0.3～0.6μm | pH（スラリー調製）: | 6.5 – 7.5 |
| 達成可能な表面粗さ: | サブナノメートルレベル | 互換性: | CMP研磨システム |
| ハイライト |
半導体用酸化セリウム研磨粉,超微細希土類研磨粉,精密光学仕上げ用酸化セリウム |
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製品の説明
半導体と精密光学の仕上げのための超細質セリウム酸化物磨き粉
製品概要
先進的な半導体と超精密な光学仕上げのために設計された この超細かなセリア磨き粉は 卓越した表面平面化と欠陥最小化を提供しますオプティマイズされた粒子工学は,高精度の光学およびウェーファー処理環境における次世代の磨き要件をサポートします.
高級半導体,航空宇宙光学,計量学用には適しています.
粒子の大きさの分布について
申請
- 半導体ウエフリング
- シリコン・ウェーバーの仕上げ
- 高精度鏡
- 航空宇宙光学
- メトロロジーと検査光学
なぜ 世界 的 な 供給 者 と し て リーチェン を 選ぶ の か
- 専用のセリア&アルミナポリシングメーカー
- 安定した稀土原材料の供給チェーン
- パーソナライズされた粒子工学能力
- 連続的なバッチ対バッチ品質管理
- 磨きプロセスの最適化のための技術支援
製品 ハイライト
半導体と精密光学の仕上げのための超細質セリウム酸化物磨き粉 製品概要 先進的な半導体と超精密な光学仕上げのために設計された この超細かなセリア磨き粉は 卓越した表面平面化と欠陥最小化を提供しますオプティマイズされた粒子工学は,高精度の光学およびウェーファー処理環境における次世代の磨き要件をサポートします. 高級半導体,航空宇宙光学,計量学用には適しています. 粒子の大きさの分布について 申請 半導体ウエフリング シリコン・ウェーバーの仕上げ 高精度鏡 航空宇宙光学 メトロロジーと検査光学 なぜ 世界 的 な 供給 者 と し て リーチェン を 選ぶ の か 専用のセリア&アルミナポリシングメ...
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