Hochreines Yttriumoxid (Y₂O₃) für thermische und Plasma-Spritzbeschichtungen in Halbleiterfertigungsanlagen
Produktdetails
| Chemische Formel: | Y₂O₃ | Reinheit: | 99,99 % |
|---|---|---|---|
| Morphologie: | Sphärisch/agglomeriert | Schmelzpunkt: | 2430°C |
| Partikelgröße: | Anpassbar | Verunreinigungskontrolle: | Halbleiterqualität |
| Hervorheben |
hochreines Yttriumoxid Halleiterbeschichtung,Yttriumoxid thermische Spritzbeschichtung,seltene Erdoxide Plasma-Spritzbeschichtung |
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Produkt-Beschreibung
Hochreines Yttrium-Oxid (Y2O3) zur thermischen und Plasmaspray-Beschichtung in Halbleiterverarbeitungsanlagen
Beschreibungauf
Hochreines Yttrium-Oxidpulver für die Plasmaspritzbeschichtung von Halbleitergeräten.
Produktmerkmale
Überlegene Korrosionsbeständigkeit von Plasma
Yttriumoxid weist eine hervorragende Beständigkeit gegen Fluor- und Chlorplasmaumgebungen auf, die üblicherweise in Halbleiter-Etz- und Ablagerungsprozessen verwendet werden.
Niedrige Partikelbelastung
Dichte Y2O3-Beschichtungen reduzieren den Partikelverlust erheblich und tragen dazu bei, ultra-saubere Halbleiterproduktionsbedingungen aufrechtzuerhalten und den Waferertrag zu verbessern.
Verlängerte Lebensdauer der Geräte
Schützt die Komponenten der Kammer vor chemischer Erosion und Plasmaschäden, wodurch die Wartungsfrequenz und die Betriebsausfallzeiten verringert werden.
Ausgezeichnete thermische Stabilität
Der hohe Schmelzpunkt und die chemische Trägheit ermöglichen eine stabile Leistung bei extremen Temperaturen und hochenergetischen Plasmabelastungen.
Typische Anwendungen
Schutz von Prozessgeräten für Halbleiter
- Plasma-Etschkammern
- CVD/PECVD-Systeme
- Ausrüstung für die Ablagerung von ALD
- Plasma-Reinigungssysteme
Schlüsselkomponenten
- Elektrostatische Chuck-Beschichtung (ESC)
- Fokusringe
- Duschköpfe
- Kammerverkleidungen
- Randringe und Schilde
- Komponenten für die Waferbehandlung
PartikelgrößenverteilungDie
Qualität und Herstellung
Hergestellt unter strenger Qualitätskontrolle von Halbleitermaterialien:
- Raffinationsverfahren für seltene Erden mit hoher Reinheit
- Kontrollierte Partikelmorphologie
- Fortgeschrittene Granulationstechnologie
- Mehrstufige Verunreinigungsüberwachung
Wettbewerbsvorteile
- Halbleiterreinheitskontrolle
- Stabile weltweite Exportversorgung
- Optimierung der speziellen Sprühbeschichtung
- Technische Unterstützung für Beschichtungsprozesse
- Zuverlässige Konsistenz von Charge zu Charge
Produkt-Highlights
Hochreines Yttrium-Oxid (Y2O3) zur thermischen und Plasmaspray-Beschichtung in Halbleiterverarbeitungsanlagen Beschreibungauf Hochreines Yttrium-Oxidpulver für die Plasmaspritzbeschichtung von Halbleitergeräten. Produktmerkmale Überlegene Korrosionsbeständigkeit von Plasma Yttriumoxid weist eine ...
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