Высокочистый оксид иттрия (Y₂O₃) для термо- и плазменного напыления в оборудовании для производства полупроводников
Детали продукта
| Химическая формула: | Й₂О₃ | Чистота: | 99,99% |
|---|---|---|---|
| Морфология: | Сферический/агломерированный | Точка плавления: | 2430°С |
| Размер частиц: | Настраиваемый | Контроль примесей: | Полупроводниковый класс |
| Выделить |
высокочистый оксид иттрия для полупроводниковых покрытий,термораспыляемое покрытие из оксида иттрия,плазменное напыление редкоземельных оксидов |
||
Характер продукции
Высокочистый оксид иттрия (Y₂O₃) для термо- и плазменного напыления в оборудовании для производства полупроводников
ОписаниеПорошок высокочистого оксида иттрия, разработанный для плазменного напыления оборудования для производства полупроводников. Отличная стойкость к плазменной коррозии, низкое загрязнение частицами и увеличенный срок службы камеры.
Особенности продукта
Превосходная стойкость к плазменной коррозии
Оксид иттрия демонстрирует выдающуюся стойкость к фторидной и хлоридной плазме, обычно используемой в процессах травления и осаждения полупроводников.
Низкое загрязнение частицами
Плотные покрытия из Y₂O₃ значительно снижают образование частиц, помогая поддерживать сверхчистые условия производства полупроводников и повышая выход годных пластин.
Увеличенный срок службы оборудования
Защищает компоненты камеры от химической эрозии и плазменного повреждения, снижая частоту технического обслуживания и время простоя.
Отличная термическая стабильность
Высокая температура плавления и химическая инертность обеспечивают стабильную работу при экстремальных температурах и воздействии высокоэнергетической плазмы.
Типичные области применения
Защита оборудования для производства полупроводников
Камеры плазменного травления
- Системы CVD / PECVD
- Оборудование для осаждения ALD
- Системы плазменной очистки
- Ключевые компоненты
Покрытие электростатических патронов (ESC)
- Фокусирующие кольца
- Распылительные головки
- Вкладыши камер
- Края колец и щитки
- Компоненты для транспортировки пластин
- Распределение размера частиц
Качество и производствоПроизведено под строгим контролем качества полупроводниковых материалов:
Процесс очистки редкоземельных металлов высокой чистоты
Контролируемая инженерия морфологии частиц
- Передовая технология грануляции
- Многоступенчатый мониторинг примесей
- Конкурентные преимущества
- Контроль чистоты полупроводникового класса
Стабильные глобальные экспортные поставки
- Индивидуальная оптимизация напыления
- Техническая поддержка процессов напыления
- Надежная согласованность от партии к партии
Основные характеристики продукта
Высокочистый оксид иттрия (Y₂O₃) для термо- и плазменного напыления в оборудовании для производства полупроводников ОписаниеПорошок высокочистого оксида иттрия, разработанный для плазменного напыления оборудования для производства полупроводников. Отличная стойкость к плазменной коррозии, низкое заг...
Полировальный порошок на основе оксида церия класса CMP для AR-оптики, массивов микролинз и носимых оптических датчиков
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Сверхтонкий полировальный порошок оксида церия для смарт-носимых устройств, защитных стекол и микрооптики
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Полирующий порошок с оксидом церия высокой чистоты для производства стекла с волноводом AR и оптических линз
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Оксалат церия в порошке Химический реагент элементы
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Пожалуйста, воспользуйтесь нашей онлайн-формой для запроса, если у вас есть вопросы, наша команда свяжется с вами как можно скорее.
