Οξείδιο Υττρίου Υψηλής Καθαρότητας (Y₂O₃) για Θερμική Ψεκασμό & Ψεκασμό Πλάσματος σε Εξοπλισμό Επεξεργασίας Ημιαγωγών
Λεπτομέρειες προιόντος
| Χημικός τύπος: | Y₂o₃ | Καθαρότητα: | 99,99% |
|---|---|---|---|
| Μορφολογία: | Σφαιρικό / Συσσωματωμένο | Σημείο Τήξης: | 2430°C |
| Μέγεθος Σωματιδίων: | Προσαρμόσιμο | Έλεγχος ακαθαρσιών: | Βαθμός ημιαγωγών |
| Επισημαίνω |
οξείδιο υττρίου υψηλής καθαρότητας επίστρωση ημιαγωγών,επίστρωση θερμικού ψεκασμού οξειδίου του υττρίου,επίστρωση ψεκασμού πλάσματος οξειδίου σπάνιων γαιών |
||
Περιγραφή προϊόντων
Υψηλής καθαρότητας οξείδιο του ιτρίου (Y2O3) για θερμική και πλάσματική επικάλυψη με ψεκασμό σε εξοπλισμό επεξεργασίας ημιαγωγών
Περιγραφέςσε
Υψηλής καθαρότητας σκόνη οξειδίου του ιτρίου σχεδιασμένη για επικάλυψη με ψεκασμό πλάσματος εξοπλισμού ημιαγωγών. Εξαιρετική αντοχή στη διάβρωση πλάσματος, χαμηλή μόλυνση σωματιδίων και παρατεταμένη διάρκεια ζωής του θαλάμου.
Χαρακτηριστικά του προϊόντος
Υψηλότερη αντοχή στη διάβρωση πλάσματος
Το οξείδιο του ιτρίου επιδεικνύει εξαιρετική αντοχή σε περιβάλλοντα πλάσματος φθορίου και χλωρίου που χρησιμοποιούνται συνήθως στις διεργασίες χαρακτικής και εναπόθεσης ημιαγωγών.
Μικρή μόλυνση από σωματίδια
Οι πυκνές επικαλύψεις Y2O3 μειώνουν σημαντικά την απόρριψη σωματιδίων, συμβάλλοντας στη διατήρηση εξαιρετικά καθαρών συνθηκών παραγωγής ημιαγωγών και βελτιώνοντας την απόδοση των κυψελών.
Διευρυμένη διάρκεια ζωής του εξοπλισμού
Προστατεύει τα εξαρτήματα του θαλάμου από χημική διάβρωση και βλάβη πλάσματος, μειώνοντας τη συχνότητα συντήρησης και τον χρόνο λειτουργικής διακοπής.
Εξαιρετική θερμική σταθερότητα
Το υψηλό σημείο τήξης και η χημική αδράνεια επιτρέπουν σταθερή απόδοση υπό ακραίες θερμοκρασίες και έκθεση σε πλάσμα υψηλής ενέργειας.
Τυπικές εφαρμογές
Προστασία εξοπλισμού διεργασίας ημιαγωγών
- Θάλαμοι χαρακτικής πλάσματος
- Συστήματα CVD / PECVD
- Εξοπλισμός αποθήκευσης ALD
- Συστήματα καθαρισμού πλάσματος
Βασικά στοιχεία
- Ηλεκτροστατική επικάλυψη Chuck (ESC)
- Εστίαση δαχτυλίδια
- Κεφαλάκια ντους
- Τεχνικές συσκευές
- Δαχτυλίδια και ασπίδες
- Συστατικά που χειρίζονται τα πλακίδια
Διανομή μεγέθους σωματιδίωνΕπικοινωνία
Ποιότητα & Κατασκευή
Κατασκευάζεται υπό αυστηρό έλεγχο ποιότητας των ημιαγωγών υλικών:
- Μεθοδολογία διύλισης σπάνιων γαιών υψηλής καθαρότητας
- Ελεγχόμενη μηχανική μορφολογίας σωματιδίων
- Τεχνολογία προηγμένης κοκκιστικοποίησης
- Πολυεπίπεδη παρακολούθηση των προσμείξεων
Ανταγωνιστικά πλεονεκτήματα
- Έλεγχος καθαρότητας σε επίπεδο ημιαγωγών
- Σταθερό παγκόσμιο εφοδιασμό εξαγωγών
- Προσαρμοσμένη βελτιστοποίηση της επικάλυψης ψεκασμού
- Τεχνική υποστήριξη για τις διαδικασίες επικάλυψης
- Αξιόπιστη συνέπεια από παρτίδα σε παρτίδα
Σημαντικά σημεία του προϊόντος
Υψηλής καθαρότητας οξείδιο του ιτρίου (Y2O3) για θερμική και πλάσματική επικάλυψη με ψεκασμό σε εξοπλισμό επεξεργασίας ημιαγωγών Περιγραφέςσε Υψηλής καθαρότητας σκόνη οξειδίου του ιτρίου σχεδιασμένη για επικάλυψη με ψεκασμό πλάσματος εξοπλισμού ημιαγωγών. Εξαιρετική αντοχή στη διάβρωση πλάσματος, χα...
Σκόνη στίλβωσης Κηρίου ποιότητας CMP για οπτικά AR, συστοιχίες μικροφακών & οπτικούς αισθητήρες φορητών συσκευών
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Υπερτελή σκόνη γυάλωσης οξειδίου του κεριού για έξυπνα φορητά καλύμματα γυαλιού και μικρο-οπτικής τελικής κατασκευής
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Σκόνη γυάλωσης με οξείδιο του κερίου υψηλής καθαρότητας για την παραγωγή γυαλιών κυματοδηγού AR και οπτικών φακών
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Οξαλικό Κερίου Σκόνη Χημικό Αντιδραστήριο Στοιχεία
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Παρακαλούμε χρησιμοποιήστε την ηλεκτρονική φόρμα επικοινωνίας παρακάτω αν έχετε οποιεσδήποτε ερωτήσεις, η ομάδα μας θα επικοινωνήσει μαζί σας το συντομότερο δυνατό.
