Yttria (Y2O3) Thermal Spray Powder Untuk Perlindungan Plasma Etching Chamber
Rincian produk
| Bahan: | Yttrium Oksida (Y₂O₃) | Kemurnian: | 99,9% |
|---|---|---|---|
| Bentuk Partikel: | Bulat / Diaglomerasi | Stabilitas Kimia: | Luar biasa |
| Tingkat Kontaminasi: | sangat rendah | Kisaran ukuran partikel: | 10–65 mikron |
| Menyoroti |
Serbuk semprotan termal yttria,Perlindungan pengikis plasma Y2O3,Lapisan termal oksida bumi langka |
||
Deskripsi Produk
Yttria (Y2O3) Thermal Spray Powder Untuk Perlindungan Plasma Etching Chamber
Deskripsipada
Yttrium Oxide (Y2O3) Spray Coating Powder adalah bahan keramik berkinerja tinggi yang dikembangkan untuk lapisan pelindung dalam peralatan pembuatan semikonduktor canggih.Dirancang untuk teknologi semprot plasma dan semprot termal, bahan membentuk lapisan keramik yttria padat yang melindungi komponen peralatan yang beroperasi di bawah lingkungan pengolahan plasma yang agresif.
Dalam proses manufaktur semikonduktor seperti pengetikan plasma, deposisi, dan pembersihan, komponen ruang terus-menerus terkena gas reaktif berbasis fluor dan ion energi.Lapisan Y2O3 memberikan stabilitas kimia yang superior dan ketahanan terhadap erosi plasma, secara efektif mengurangi sumber kontaminasi dan memastikan kinerja proses yang stabil.
Bahan ini direkayasa dengan morfologi partikel terkontrol dan distribusi ukuran yang dioptimalkan untuk mencapai kekuatan adhesi lapisan yang tinggi, mikrostruktur seragam, dan daya tahan lapisan yang sangat baik.
Fitur Produk
Ketahanan Plasma yang Luar Biasa
Lapisan yttria menunjukkan ketahanan yang sangat baik terhadap korosi plasma fluorocarbon, menjadikannya ideal untuk simpul semikonduktor generasi berikutnya.
Penurunan Generasi Partikel
Struktur lapisan keramik padat meminimalkan micro-flaking dan partikel menumpahkan di dalam ruang pengolahan.
Meningkatkan Stabilitas Proses
Kimia permukaan yang stabil membantu mempertahankan kondisi proses semikonduktor yang dapat diulang dan meningkatkan hasil manufaktur.
Efisiensi Deposisi Tinggi
Morfologi bubuk yang dioptimalkan memastikan aliran yang sangat baik dan keseragaman lapisan selama penyemprotan plasma.
Umur Pelayanan yang Panjang
Secara signifikan memperpanjang interval pemeliharaan dibandingkan dengan pelapis keramik konvensional.
Aplikasi Tipikal
Perlindungan Peralatan Semikonduktor
- Sistem Etching Plasma
- CVD / PECVD
- Sistem ALD
- Ruang Pembersih Kering
Komponen Lapisan
- Pemancar Elektrostatik (ESC)
- Liner Kamar
- Plat distribusi gas
- Cincin dan Perisai
Distribusi ukuran partikelPeraturan
Manufaktur & Kontrol Kualitas
Dibuat menggunakan teknologi pengolahan tanah langka canggih:
- Sintesis yttria dengan kemurnian tinggi
- Granulasi berupa semprotan yang terkontrol
- Pemantauan kotoran yang ketat
- Penjaminan mutu bahan semikonduktor
Sorotan Produk
Yttria (Y2O3) Thermal Spray Powder Untuk Perlindungan Plasma Etching Chamber Deskripsipada Yttrium Oxide (Y2O3) Spray Coating Powder adalah bahan keramik berkinerja tinggi yang dikembangkan untuk lapisan pelindung dalam peralatan pembuatan semikonduktor canggih.Dirancang untuk teknologi semprot ...
Bubuk Poles Ceria Tingkat CMP untuk Optik AR, Susunan Lensa Mikro & Sensor Optik yang Dapat Dipakai
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder Untuk Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Powder Polishing Cerium Oxide Kemurnian Tinggi Untuk AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Bubuk Oksalat Serium Reagen Kimia Unsur
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.
