제품 상세정보
| 재료: | 유트륨 산화물 (Y2O3) | 청정: | 99.9% |
|---|---|---|---|
| 입자 모양: | 구형/응집형 | 화학적 안정성: | 뛰어난 |
| 오염 수준: | 극히 낮습니다 | 입자 크기 범위: | 10~65μm |
| 강조하다 |
이트리아 열 스프레이 분말,Y2O3 플라즈마 에치 보호,희토류 산화물 열 코팅 |
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제품 설명
플라즈마 식각 챔버 보호용 이트리아(Y₂O₃) 열 분무 분말
설명이트륨 산화물(Y₂O₃) 스프레이 코팅 분말은 첨단 반도체 제조 장비의 보호 코팅을 위해 개발된 고성능 세라믹 재료입니다. 플라즈마 스프레이 및 열 분무 기술을 위해 설계된 이 재료는 공격적인 플라즈마 공정 환경에서 작동하는 장비 부품을 보호하는 조밀한 이트리아 세라믹 층을 형성합니다.
플라즈마 식각, 증착, 세정 등 반도체 제조 공정에서 챔버 부품은 불소 기반 반응성 가스와 고에너지 이온에 지속적으로 노출됩니다. Y₂O₃ 코팅은 우수한 화학적 안정성과 플라즈마 침식 저항성을 제공하여 오염원을 효과적으로 줄이고 안정적인 공정 성능을 보장합니다.
이 재료는 제어된 입자 형태와 최적화된 크기 분포로 설계되어 높은 코팅 접착 강도, 균일한 미세 구조 및 우수한 코팅 내구성을 달성합니다.
제품 특징
뛰어난 플라즈마 내구성
이트리아 코팅은 불소 탄화물 플라즈마 부식에 대한 우수한 저항성을 보여 차세대 반도체 노드에 이상적입니다.
입자 발생 감소
조밀한 세라믹 코팅 구조는 공정 챔버 내부의 미세 박리 및 입자 낙하를 최소화합니다.
공정 안정성 향상
안정적인 표면 화학은 반복 가능한 반도체 공정 조건을 유지하고 제조 수율을 향상시키는 데 도움이 됩니다.
높은 증착 효율
최적화된 분말 형태는 플라즈마 스프레이 중 우수한 유동성과 코팅 균일성을 보장합니다.
긴 서비스 수명
기존 세라믹 코팅에 비해 유지 보수 간격을 크게 연장합니다.
일반적인 응용 분야
반도체 장비 보호
플라즈마 식각 시스템
- CVD / PECVD
- ALD 시스템
- 건식 세정 챔버
- 코팅 부품
정전 척 (ESC)
- 챔버 라이너
- 가스 분배 플레이트
- 엣지 링 및 쉴드
- 입자 크기 분포
제조 및 품질 관리첨단 희토류 가공 기술을 사용하여 제조:
고순도 이트리아 합성
제어된 스프레이 등급 과립화
- 엄격한 불순물 모니터링
- 반도체 재료 품질 보증
제품 하이라이트
플라즈마 식각 챔버 보호용 이트리아(Y₂O₃) 열 분무 분말 설명이트륨 산화물(Y₂O₃) 스프레이 코팅 분말은 첨단 반도체 제조 장비의 보호 코팅을 위해 개발된 고성능 세라믹 재료입니다. 플라즈마 스프레이 및 열 분무 기술을 위해 설계된 이 재료는 공격적인 플라즈마 공정 환경에서 작동하는 장비 부품을 보호하는 조밀한 이트리아 세라믹 층을 형성합니다. 플라즈마 식각, 증착, 세정 등 반도체 제조 공정에서 챔버 부품은 불소 기반 반응성 가스와 고에너지 이온에 지속적으로 노출됩니다. Y₂O₃ 코팅은 우수한 화학적 안정성과 플라즈마 침식 ...
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