Rivestimento a spruzzo di ossido di ittrio per apparecchiature a semiconduttore | Materiale di rivestimento resistente al plasma di Y₂O₃ ad alta purezza
Dettagli del prodotto
| Formula chimica: | Y₂O₃ | Purezza: | 99,9% |
|---|---|---|---|
| Morfologia: | Sferico | Densità: | ≥ 5,0 g/cm³ |
| Resistenza al plasma: | Eccellente | Controllo delle impurità: | Grado di semiconduttore |
| Evidenziare |
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Descrizione di prodotto
Rivestimento a spruzzo di ossido di ittrio per apparecchiature a semiconduttore | Materiale di rivestimento resistente al plasma ad alta purezza di Y₂O₃
Descrizione
Il materiale di rivestimento a spruzzo di ossido di ittrio (Y₂O₃) è una polvere ceramica di terre rare ad alta purezza ingegnerizzata per rivestimenti protettivi utilizzati nelle apparecchiature di produzione di semiconduttori. Il materiale viene ampiamente applicato attraverso tecnologie di rivestimento a spruzzo termico, a spruzzo al plasma o a spruzzo in sospensione per proteggere i componenti critici esposti ad ambienti al plasma aggressivi.
I rivestimenti di ossido di ittrio offrono un'eccezionale resistenza alla corrosione da plasma a base di fluoro, alla generazione di particelle e all'erosione chimica, prolungando significativamente la vita utile delle camere di processo dei semiconduttori.
Il rivestimento forma una barriera ceramica densa e chimicamente stabile che minimizza la contaminazione e migliora la stabilità del processo nella fabbricazione avanzata di semiconduttori.
Applicazioni tipiche
Protezione delle apparecchiature di processo per semiconduttori
- Camere di incisione al plasma
- Sistemi CVD / PECVD
- Apparecchiature di deposizione ALD
- Sistemi di pulizia al plasma
Componenti chiave
- Rivestimento del mandrino elettrostatico (ESC)
- Anelli di focalizzazione
- Testine di doccia
- Rivestimenti della camera
- Anelli e scudi di bordo
- Componenti per la movimentazione dei wafer
Distribuzione della granulometriaPerché il rivestimento di ossido di ittrio per apparecchiature a semiconduttore
tRispetto ai rivestimenti convenzionali di allumina, i rivestimenti di ittria offrono:Maggiore resistenza all'erosione al plasma
Minore rischio di contaminazione
- Costi di manutenzione ridotti
- Cicli di servizio della camera più lunghi
- Migliore coerenza del processo
- I rivestimenti di Y₂O₃ sono ampiamente adottati nelle linee di fabbricazione avanzate di semiconduttori logici, di memoria e composti.
Caratteristiche del prodotto
Rivestimento a spruzzo di ossido di ittrio per apparecchiature a semiconduttore | Materiale di rivestimento resistente al plasma ad alta purezza di Y₂O₃ Descrizione Il materiale di rivestimento a spruzzo di ossido di ittrio (Y₂O₃) è una polvere ceramica di terre rare ad alta purezza ingegnerizzata ...
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