Επικάλυψη με ψεκασμό οξειδίου του ιτρίου για εξοπλισμό ημιαγωγών. Υλικό υψηλής καθαρότητας για την επικάλυψη που αντέχει στο πλάσμα.
Λεπτομέρειες προιόντος
| Χημικός τύπος: | Y₂o₃ | Καθαρότητα: | 99,9% |
|---|---|---|---|
| Μορφολογία: | Σφαιρικό | Πυκνότητα: | ≥ 5,0 g/cm³ |
| Αντίσταση στο πλάσμα: | Εξοχος | Έλεγχος ακαθαρσιών: | Βαθμός ημιαγωγών |
| Επισημαίνω |
Επιχρισμός ημιαγωγών οξειδίου του ιτρίου,Υψηλής καθαρότητας επιφάνεια πλάσματος Y2O3,Υλικό ψεκασμού οξειδίων σπάνιων γαιών |
||
Περιγραφή προϊόντων
Επικάλυψη Ψεκασμού Οξειδίου του Υττρίου για Εξοπλισμό Ημιαγωγών | Υψηλής Καθαρότητας Υλικό Επικάλυψης Ανθεκτικό στο Πλάσμα Υ₂Ο₃
Περιγραφή
Το υλικό επικάλυψης ψεκασμού οξειδίου του υττρίου (Υ₂Ο₃) είναι μια κεραμική σκόνη σπάνιων γαιών υψηλής καθαρότητας, σχεδιασμένη για προστατευτικές επικαλύψεις που χρησιμοποιούνται στον εξοπλισμό κατασκευής ημιαγωγών. Το υλικό εφαρμόζεται ευρέως μέσω τεχνολογιών θερμικού ψεκασμού, ψεκασμού πλάσματος ή ψεκασμού εναιωρήματος για την προστασία κρίσιμων εξαρτημάτων που εκτίθενται σε επιθετικά περιβάλλοντα πλάσματος.
Οι επικαλύψεις οξειδίου του υττρίου παρέχουν εξαιρετική αντίσταση στη διάβρωση από πλάσμα που βασίζεται σε φθόριο, στη δημιουργία σωματιδίων και στη χημική διάβρωση, επεκτείνοντας σημαντικά τη διάρκεια ζωής των θαλάμων επεξεργασίας ημιαγωγών.
Η επικάλυψη σχηματίζει ένα πυκνό, χημικά σταθερό κεραμικό φράγμα που ελαχιστοποιεί τη μόλυνση και βελτιώνει τη σταθερότητα της διαδικασίας στην προηγμένη κατασκευή ημιαγωγών.
Τυπικές Εφαρμογές
Προστασία Εξοπλισμού Επεξεργασίας Ημιαγωγών
- Θάλαμοι Χάραξης Πλάσματος
- Συστήματα CVD / PECVD
- Εξοπλισμός Εναπόθεσης ALD
- Συστήματα Καθαρισμού Πλάσματος
Βασικά Εξαρτήματα
- Επικάλυψη Ηλεκτροστατικού Τσοκ (ESC)
- Δακτύλιοι Εστίασης
- Κεφαλές Ψεκασμού
- Επενδύσεις Θαλάμου
- Δακτύλιοι Άκρων & Ασπίδες
- Εξαρτήματα Χειρισμού Δίσκων
Κατανομή Μέγεθους ΣωματιδίωνΓιατί Επικάλυψη Οξειδίου του Υττρίου για Εξοπλισμό Ημιαγωγών
Σε σύγκριση με τις συμβατικές επικαλύψεις αλουμίνας, οι επικαλύψεις υττρίας προσφέρουν:Υψηλότερη αντίσταση στη διάβρωση από πλάσμαΧαμηλότερος κίνδυνος μόλυνσης
Μειωμένο κόστος συντήρησης
- Μεγαλύτεροι κύκλοι ζωής θαλάμου
- Βελτιωμένη συνέπεια διαδικασίας
- Οι επικαλύψεις Υ₂Ο₃ υιοθετούνται ευρέως σε προηγμένες γραμμές κατασκευής λογικών κυκλωμάτων, μνήμης και σύνθετων ημιαγωγών.
Σημαντικά σημεία του προϊόντος
Επικάλυψη Ψεκασμού Οξειδίου του Υττρίου για Εξοπλισμό Ημιαγωγών | Υψηλής Καθαρότητας Υλικό Επικάλυψης Ανθεκτικό στο Πλάσμα Υ₂Ο₃ Περιγραφή Το υλικό επικάλυψης ψεκασμού οξειδίου του υττρίου (Υ₂Ο₃) είναι μια κεραμική σκόνη σπάνιων γαιών υψηλής καθαρότητας, σχεδιασμένη για προστατευτικές επικαλύψεις που ...
Σκόνη στίλβωσης Κηρίου ποιότητας CMP για οπτικά AR, συστοιχίες μικροφακών & οπτικούς αισθητήρες φορητών συσκευών
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Υπερτελή σκόνη γυάλωσης οξειδίου του κεριού για έξυπνα φορητά καλύμματα γυαλιού και μικρο-οπτικής τελικής κατασκευής
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Σκόνη γυάλωσης με οξείδιο του κερίου υψηλής καθαρότητας για την παραγωγή γυαλιών κυματοδηγού AR και οπτικών φακών
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Οξαλικό Κερίου Σκόνη Χημικό Αντιδραστήριο Στοιχεία
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Παρακαλούμε χρησιμοποιήστε την ηλεκτρονική φόρμα επικοινωνίας παρακάτω αν έχετε οποιεσδήποτε ερωτήσεις, η ομάδα μας θα επικοινωνήσει μαζί σας το συντομότερο δυνατό.
