Revestimiento por aerosol de óxido de itrio para equipos de semiconductores. Material de revestimiento resistente al plasma Y2O3 de alta pureza.
Detalles del producto
| Fórmula química: | Y₂O₃ | Pureza: | 99,9% |
|---|---|---|---|
| Morfología: | Esférica | Densidad: | ≥ 5,0 g/cm³ |
| Resistencia al plasma: | Excelente | Control de impurezas: | Grado semiconductor |
| Resaltar |
Revestimiento de semiconductores de óxido de itrio,Revestimiento plasmático de Y2O3 de alta pureza,Material de pulverización de óxidos de tierras raras |
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Descripción de producto
Revestimiento por aerosol de óxido de itrio para equipos de semiconductores. Material de revestimiento resistente al plasma Y2O3 de alta pureza.
DescripcionesEn el
El material de recubrimiento por aerosol de óxido de itrio (Y2O3) es un polvo cerámico de tierras raras de alta pureza diseñado para recubrimientos protectores utilizados en equipos de fabricación de semiconductores.El material se aplica ampliamente a través de la fumigación térmicaLas tecnologías de recubrimiento con plasma o suspensión para proteger los componentes críticos expuestos a ambientes de plasma agresivos.
Los recubrimientos de óxido de itrio proporcionan una resistencia excepcional contra la corrosión del plasma a base de flúor, la generación de partículas y la erosión química.que amplía significativamente la vida útil de las cámaras de procesamiento de semiconductores.
El recubrimiento forma una barrera cerámica densa y químicamente estable que minimiza la contaminación y mejora la estabilidad del proceso en la fabricación avanzada de semiconductores.
Aplicaciones típicas
Protección de los equipos de proceso de semiconductores
- Cámaras de grabado por plasma
- Sistemas de CVD / PECVD
- Equipo de deposición ALD
- Sistemas de limpieza de plasma
Componentes clave
- Revestimiento de chuck electrostático (ESC)
- Anillos de enfoque
- Las cabezas de ducha
- Envases para cámaras
- Anillos de borde y escudos
- Componentes para el manejo de obleas
Distribución del tamaño de las partículasEl
Por qué el revestimiento de óxido de itrio para equipos de semiconductoreshombrest
En comparación con los recubrimientos de alumina convencionales, los recubrimientos yttria ofrecen:
- Mayor resistencia a la erosión del plasma
- Menor riesgo de contaminación
- Reducción de los costes de mantenimiento
- Ciclos de servicio de cámara más largos
- Mejora de la coherencia del proceso
Los recubrimientos Y2O3 se adoptan ampliamente en líneas de fabricación de lógica avanzada, memoria y semiconductores compuestos.
Lo más destacado del producto
Revestimiento por aerosol de óxido de itrio para equipos de semiconductores. Material de revestimiento resistente al plasma Y2O3 de alta pureza. DescripcionesEn el El material de recubrimiento por aerosol de óxido de itrio (Y2O3) es un polvo cerámico de tierras raras de alta pureza diseñado para ...
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