Qualidade Revestimento por Pulverização de Óxido de Ítrio para Equipamentos Semicondutores | Material de Revestimento Resistente a Plasma de Y₂O₃ de Alta Pureza Fábrica
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Qualidade Revestimento por Pulverização de Óxido de Ítrio para Equipamentos Semicondutores | Material de Revestimento Resistente a Plasma de Y₂O₃ de Alta Pureza Fábrica
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Revestimento por Pulverização de Óxido de Ítrio para Equipamentos Semicondutores | Material de Revestimento Resistente a Plasma de Y₂O₃ de Alta Pureza

Nome da marca: LICHEN
Número do modelo: LC
Lugar de origem: China
Certificação: ISO
Quantidade mínima do pedido: 20kg
Preço: Contact Sales Team for Quotation
Capacidade de abastecimento: 3000MT/year

Detalhes do produto


Fórmula Química: Y₂O₃ Pureza: 99,9%
Morfologia: Esférica Densidade: ≥ 5,0 g/cm³
Resistência Plasmática: Excelente Controle de Impurezas: Grau de semicondutor
Destacar

Revestimento semicondutor de óxido de ítrio

,

Revestimento de plasma de Y₂O₃ de alta pureza

,

Material de pulverização de óxido de terra rara

Descrição do produto


Revestimento por spray de óxido de ítrium para equipamentos de semicondutores. Material de revestimento resistente ao plasma de alta pureza Y2O3.

Descriçõesem

O óxido de ítrium (Y2O3) Spray Coating Material é um pó cerâmico de terras raras de alta pureza projetado para revestimentos protetores utilizados em equipamentos de fabricação de semicondutores.O material é amplamente aplicado através de pulverização térmicaTecnologias de revestimento por pulverização de plasma ou por pulverização de suspensão para proteger componentes críticos expostos a ambientes de plasma agressivos.

Os revestimentos de óxido de ítrium oferecem uma resistência excepcional à corrosão plasmática à base de flúor, à geração de partículas e à erosão química.que prolonga significativamente a vida útil das câmaras de processamento de semicondutores.

O revestimento forma uma barreira cerâmica densa e quimicamente estável que minimiza a contaminação e melhora a estabilidade do processo na fabricação avançada de semicondutores.

Aplicações típicas

Proteção dos equipamentos de processo de semicondutores

  • Câmaras de gravação por plasma
  • Sistemas CVD / PECVD
  • Equipamento de deposição ALD
  • Sistemas de limpeza de plasma

Principais componentes

  • Revestimento de chuque eletrostático (ESC)
  • Anéis de foco
  • Cabeças de chuveiro
  • Revestimentos para câmaras
  • Anéis de borda e escudos
  • Componentes de manipulação de wafer

 

Distribuição do tamanho das partículasAção


Revestimento por Pulverização de Óxido de Ítrio para Equipamentos Semicondutores | Material de Revestimento Resistente a Plasma de Y₂O₃ de Alta Pureza

Por que revestimento de óxido de ítrium para equipamentos de semicondutoresHomenst

Em comparação com os revestimentos de alumina convencionais, os revestimentos yttria oferecem:

  • Maior resistência à erosão do plasma
  • Menor risco de contaminação
  • Redução dos custos de manutenção
  • Ciclos de serviço de câmara mais longos
  • Melhoria da coerência dos processos

Os revestimentos Y2O3 são amplamente adotados em linhas avançadas de fabricação de lógica, memória e semicondutores compostos.

Destaques do Produto

Revestimento por spray de óxido de ítrium para equipamentos de semicondutores. Material de revestimento resistente ao plasma de alta pureza Y2O3. Descriçõesem O óxido de ítrium (Y2O3) Spray Coating Material é um pó cerâmico de terras raras de alta pureza projetado para revestimentos protetores ...

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